预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10

亲,该文档总共17页,到这已经超出免费预览范围,如果喜欢就直接下载吧~

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112795979A(43)申请公布日2021.05.14(21)申请号202110354816.4(22)申请日2021.04.01(71)申请人浙江晶科能源有限公司地址314416浙江省嘉兴市海宁市袁花镇袁溪路58号(72)发明人欧子杨尚伟泽张昕宇白枭龙(74)专利代理机构北京汇思诚业知识产权代理有限公司11444代理人钱娴静(51)Int.Cl.C30B15/00(2006.01)C30B15/04(2006.01)C30B15/20(2006.01)C30B29/06(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图4页(54)发明名称一种单晶硅制备方法及装置(57)摘要本申请涉及光伏领域,提供一种单晶硅制备方法及装置,其中,方法包括以下步骤:将掺杂剂、多晶硅原料以及重掺杂硅原料放入坩埚中,重掺杂硅原料平铺设于坩埚底部,掺杂剂与多晶硅原料混合并铺设于重掺杂硅原料上;将坩埚置于单晶炉内,对单晶炉进行抽真空操作后通入保护气体,并在保护气体作用下熔化多晶硅原料及掺杂剂,得到硅熔体,控制重掺杂硅原料不熔化;当硅熔体温度稳定后,将晶种浸入硅熔体中,之后依次进行引晶,放肩,等径生长阶段,其中,在等径生长过程中,由上往下熔化至少部分重掺杂硅原料,使得重掺杂硅原料中的掺杂元素进入硅熔体中以实现再次掺杂。本申请的单晶硅制备方法及装置,降低单晶硅含氧量,提高硅棒电阻率集中度。CN112795979ACN112795979A权利要求书1/2页1.一种单晶硅制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将掺杂剂、多晶硅原料以及重掺杂硅原料放入坩埚中,其中,所述重掺杂硅原料平铺设于所述坩埚的底部,所述掺杂剂与所述多晶硅原料混合并铺设于所述重掺杂硅原料上;将所述坩埚置于单晶炉内,对所述单晶炉进行抽真空操作后通入保护气体,并在保护气体作用下熔化所述多晶硅原料及所述掺杂剂,得到硅熔体,其中,在熔料过程中,所述掺杂剂进入所述硅熔体中以实现初步掺杂,且控制所述坩埚底部的所述重掺杂硅原料不熔化;当所述硅熔体温度稳定后,将晶种浸入所述硅熔体中,之后依次进行引晶,放肩,等径生长阶段,其中,在等径生长过程中,由上往下熔化至少部分所述重掺杂硅原料,使得所述重掺杂硅原料中的掺杂元素进入所述硅熔体中以实现再次掺杂;等径生长完成后,进行收尾阶段,使得晶体的直径逐步缩小直至与所述硅熔体分离,待所述晶体冷却至室温后取出以获得单晶硅。2.根据权利要求1所述的单晶硅制备方法,其特征在于,在熔料过程中,控制所述坩埚的侧部加热器位于所述坩埚底部的所述重掺杂硅原料的上方,且所述侧部加热器的辐射范围覆盖至少部分所述多晶硅原料及所述掺杂剂。3.根据权利要求1所述的单晶硅制备方法,其特征在于,在等径生长过程中,控制所述坩埚的侧部加热器的辐射范围覆盖至少部分所述重掺杂原料,利用所述坩埚的底部加热器与所述侧部加热器由上往下熔化至少部分所述重掺杂硅原料。4.根据权利要求1所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述多晶硅原料与所述重掺杂硅原料的重量比为1:(0.9~1.2)。5.根据权利要求4所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述在等径生长过程中,由上往下熔化至少部分所述重掺杂硅原料,具体包括:控制硅熔体结晶速率等于所述重掺杂硅原料的熔化速率,使得所述硅熔体液面保持不变。6.根据权利要求4所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述重掺杂硅原料中的掺杂元18183素的浓度为2×10~7×10atoms/cm。7.根据权利要求1所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述多晶硅原料与所述重掺杂硅原料的重量比为50:(2.5~3.5)。8.根据权利要求7所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述在等径生长过程中,由上往下熔化至少部分所述重掺杂硅原料,具体包括:控制所述重掺杂硅原料的熔化速率小于所述硅熔体结晶速率,所述硅熔体结晶速率为4kg/h~8kg/h。9.根据权利要求7所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述重掺杂硅原料中的掺杂元18193素的浓度为4×10~7×10atoms/cm。10.根据权利要求2所述的单晶硅制备方法,其特征在于,在熔料过程中,所述掺杂剂进入所述硅熔体中以实现初步掺杂,且控制所述坩埚底部的所述重掺杂硅原料不熔化,具体包括:控制所述坩埚的坩埚轴内的进出水管道呈打开状态,所述进出水管道内设有常温水。11.根据权利要求5或8所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述在等径生长过程中,2CN112795979A权利要求书2/2页由上往下熔化至少部分所述重掺杂硅原料,具体包括:控制所述坩埚的坩埚轴内的进出水管道呈打开状态,所述进出水管道内设有常温水。12.根据权利要求2或3所述的单晶硅制备方法,其特征在于,所述坩埚的高度为600mm~900mm