用于化学机械研磨系统的蒸气处理站.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113874164A(43)申请公布日2021.12.31(21)申请号202080038936.7P·D·巴特菲尔德(22)申请日2020.05.28(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公(30)优先权数据司3110062/854,3052019.05.29US代理人汪骏飞侯颖媖(85)PCT国际申请进入国家阶段日(51)Int.Cl.2021.11.25B24B37/005(2012.01)B24B37/34(2012.01)(86)PCT国际申请的申请数据H01L21/306(2006.01)PCT/US2020/0349362020.05.28H01L21/67(2006.01)(87)PCT国际申请的公布数据WO2020/243313EN2020.12.03(71)申请人应用材料公司地址美国加利福尼亚州(72)发明人吴昊晟唐建设H·桑达拉拉贾恩张寿松陈辉卓志忠A·J·菲舍权利要求书2页说明书11页附图5页(54)发明名称用于化学机械研磨系统的蒸气处理站(57)摘要一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，该设备包括装载罩、基座、锅炉、一个或多个喷嘴以及供应管线，该基座在由该装载罩所界定的腔中，该基座配置成从承载头接收基板或将该基板供应到该承载头，该锅炉用于产生蒸气，该一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由该装载罩所界定的该腔中，该供应管线从该锅炉延伸到该一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到该一个或多个喷嘴。CN113874164ACN113874164A权利要求书1/2页1.一种用于在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的设备，包括：装载罩；基座，所述基座在由所述装载罩所界定的腔中，所述基座配置成从承载头接收基板或将所述基板供应到所述承载头；锅炉，所述锅炉用于产生蒸气；一个或多个喷嘴，所述一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由所述装载罩所界定的所述腔中；以及供应管线，所述供应管线从所述锅炉延伸到所述一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到所述一个或多个喷嘴。2.如权利要求1所述的设备，包括用于在所述承载头在所述装载罩内时旋转所述承载头的电机和/或用于升高或降低所述装载罩内的所述承载头的致动器。3.如权利要求1所述的设备，包括用于监控所述承载头和/或所述基板的温度的温度传感器。4.如权利要求3所述的设备，包括控制器，所述控制器配置成接收来自所述传感器的所述温度并且当所述承载头或所述基板达到目标温度时停止蒸气流。5.如权利要求1所述的设备，其中所述一个或多个喷嘴包括第一喷嘴和/或第二喷嘴，且进一步包括控制器，所述控制器配置成当所述承载头定位于所述装载罩中时使蒸气流过所述第一喷嘴到所述承载头的外表面上，和/或当所述基板定位于所述基座上时使蒸气流过所述第二喷嘴到所述承载头的内表面上。6.如权利要求5所述的设备，其中所述控制器配置成当所述基板被装载在所述承载头中时使蒸气流过所述第二喷嘴到所述基板的底表面上。7.如权利要求1所述的设备，其中所述一个或多个喷嘴包括第三喷嘴和/或第四喷嘴，且进一步包括控制器，所述控制器配置成当所述基板位于所述基座上时使蒸气流过所述第三喷嘴到所述基板的顶表面上，和/或当所述基板定位于所述基座上时使蒸气流过所述第四喷嘴到所述基板的底表面上。8.一种在化学机械研磨系统中对承载头或基板进行蒸气处理的方法，包括以下步骤：将承载头和/或基板接收在所述化学机械研磨系统的基板装载罩中；及将蒸气引导到所述装载罩中的所述承载头和/或基板上，以清洁和/或预热所述承载头和/或基板。9.一种用于在化学机械研磨系统中对调节器头和/或调节器盘进行蒸气处理的设备，包括：调节器清洁杯；锅炉，所述锅炉用于产生蒸气；一个或多个喷嘴，所述一个或多个喷嘴定位成将蒸气向内引导到由所述装载罩所界定的腔中；以及供应管线，所述供应管线从所述锅炉延伸到所述一个或多个喷嘴，以将蒸气供应到所述一个或多个喷嘴。10.如权利要求9所述的设备，包括用于监控所述调节器头和/或调节器盘的温度的温度传感器。2CN113874164A权利要求书2/2页11.如权利要求10所述的设备，包括控制器，所述控制器配置成接收来自所述传感器的所述温度以及当所述调节器头或调节器盘达到目标温度时停止流向所述调节器头或调节器盘的蒸气流。12.如权利要求9所述的装置，其中所述一个或多个喷嘴包括第一喷嘴和/或第二喷嘴，且进一步包括控制器，所述控制器配置成当所述调节器头定位于所述清洁杯中时使蒸气流过所述第一喷嘴到所述调节器盘的底表面上，和/或当所述调节器头定位于所述清洁杯中时使蒸气流过所述第二喷嘴到所述调节器头的外表面上。13.一种在化学机械研磨系统中对调节器头和/或调节器盘进行蒸气处理的方法，包