一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113998890A(43)申请公布日2022.02.01(21)申请号202010737255.1(22)申请日2020.07.28(71)申请人张睿地址464000河南省信阳市浉河区长安路237号附293号(72)发明人张睿刘志钧郭建民(51)Int.Cl.C03C8/12(2006.01)C04B41/86(2006.01)权利要求书1页说明书4页(54)发明名称一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法(57)摘要本发明公开了一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，包括以下步骤：S1.按重量份计取釉块原料；S2.将S1中的原料混合均匀，在熔块炉中熔融煅烧，经水淬制得熔块，即得釉块；S3.按重量份计取釉浆原料；S4.将S3中的原料在球磨机中研磨，制得釉浆；S5.将釉浆加入第一釉缸内，在第一釉缸的内壁内设置降温隔层，并且在降温隔层上缠绕螺旋状的冷却水管对第一釉缸进行降温，并对釉浆进行搅拌；S6.让釉浆从第一釉缸内排出，并且流下到淋釉钟罩的表面，使其形成釉浆帘幕。本发明通过在釉浆的原料中加入适量的石英粉、氧化铬、氧化钛，使釉浆具有较强的耐酸耐磨性能，同时氧化铬具有优良的化学稳定性，是抵抗烟气中的二氧化硫、硫化氢等腐蚀性气体的优良原料。CN113998890ACN113998890A权利要求书1/1页1.一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于，包括以下步骤：S1.按重量份计取釉块原料，二氧化硅10-40份，三氧化二铝8-14份，碳酸钡1-5份，高岭土6-14份，长石6-16份，硼砂7-14份，红丹1-4份，磷酸钙13-20份，滑石粉8-16份，钛白粉2-5份，硅酸锆1-3份，方解石3-7份，氧化钴1-2份，氧化锰1-2份；S2.将S1中的原料按配比关系在混合箱内混合均匀，在熔块炉中熔融煅烧，经水淬制得熔块，即得釉块；S3.按重量份计取釉浆原料，取S2中制得的釉块80-120份，氧化铬3-6份，氧化钛4-8份，石英粉6-10份，粘土4-7份，膨润土0.5-1份，水40-60份；S4.将S3中的原料按配比关系在球磨机中研磨，制得釉浆；S5.将釉浆加入第一釉缸内，在第一釉缸的内壁内设置降温隔层，并且在降温隔层上缠绕螺旋状的冷却水管对第一釉缸进行降温，并对釉浆进行搅拌，搅拌速度为350-500r/min；S6.让釉浆从第一釉缸内排出，并且流下到淋釉钟罩的表面，使其形成釉浆帘幕；S7.使陶瓷砖坯在皮带的输送下通过釉浆帘幕，将釉浆淋于陶瓷砖坯面上；S8.对多余的釉浆进行收集，使多余的釉浆流入第二釉缸内，待再次使用。2.根据权利要求1所述的一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述S2中混合箱的转速为800-1200r/min,且搅拌的时间为30-60min。3.根据权利要求1所述的一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述S2中熔块炉的温度为1100-1300℃。4.根据权利要求1所述的一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述S4中研磨时还需要加入分散剂、羧甲基纤维素钠和三聚磷酸钠。5.根据权利要求4所述的一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述分散剂为0.5-1份，所述羧甲基纤维素钠0.8-1.2份，所述三聚磷酸钠为0.5-1份。6.根据权利要求1所述的一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述S4中研磨分为两次球磨，一次球磨的转速为350-500r/min，时间为20-40h,二次球磨的转速为350-500r/min，时间为1-3h。7.根据权利要求1所述的一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述磨球的直径为4-16mm。8.根据权利要求1所述的一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法，其特征在于：所述釉浆的细度为10-16μm。2CN113998890A说明书1/4页一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法技术领域[0001]本发明属于陶瓷生产技术领域，具体涉及一种釉浆恒温淋釉稳定的淋釉方法。背景技术[0002]目前，在陶瓷生产中，淋釉看起来是一道比较简单的工序，但又是比较容易出错的工序，很多瓷砖釉面缺陷都是淋釉引起，像釉面波纹、不平、针孔、釉泡、釉粉等缺陷，淋釉引起的缺陷在瓷砖缺陷降级中占有很大比例。目前，淋釉过程主要采用单釉缸淋釉方式，一个釉缸、一个釉泵，釉泵抽釉输送到釉斗，釉斗的釉一部分向下流向淋釉钟罩，经淋釉钟罩呈帘幕状淋在砖面上，另一部分经回釉管流回釉缸，淋釉钟罩帘幕淋釉一部分淋在砖面一部分经集釉斗收集流回到釉缸，釉缸、釉泵、釉斗、淋釉钟罩、集釉斗在釉泵与输釉管联接下组成一个循环系统。然而市面上各种的釉浆和淋釉方法仍存在各种各样的问题。[0003]如授权公告号为CN110281360A所公开的一种淋釉方法及装置，其虽然具有能准确控制砖坯淋釉