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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115609728A(43)申请公布日2023.01.17(21)申请号202211339525.9(22)申请日2022.10.26(71)申请人广州凯立达电子股份有限公司地址510730广东省广州市经济技术开发区永和经济区井泉一路8号(72)发明人朱惠祥张独异戴开彬(74)专利代理机构广州熠辉专利代理事务所(普通合伙)44796专利代理师李恒远(51)Int.Cl.B28B1/29(2006.01)B28B11/00(2006.01)B28B17/00(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图5页(54)发明名称一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺(57)摘要本发明公开了一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,涉及压电陶瓷领域,针对现有的球面压电陶瓷加工工艺存在产品尺寸受限,材料浪费大和良品率低的问题。本发明方案包括以下步骤:S1、将压电陶瓷粉料与酒精、乙酸丁酯、分散剂、粘接剂、增塑剂充分混合;S2、将步骤S1中的浆料除泡,进行流延、裁剪;S3、将步骤S2中裁剪好的膜带多层叠放,轧膜得到相应厚度压电陶瓷膜带;S4用球面模具将压电陶瓷膜带冲成球面坯体;S5、将球面坯体放入加工好相应曲率半径的凹面陶瓷底座中,压上相应曲率半径的凸面陶瓷压块,一起放入炉中排胶、烧结成球面压电陶瓷。本发明工艺简单可行,成品率高,无需研磨加工,大大减少材料浪费。CN115609728ACN115609728A权利要求书1/2页1.一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:S1、将压电陶瓷粉料与酒精、乙酸丁酯、分散剂、粘接剂、增塑剂充分混合,得到高固含量、粘度合适浆料;S2、将步骤S1中的浆料除泡,在温度区间为50‑100℃的流延机上进行流延、裁剪;S3、将步骤S2中裁剪好的膜带多层叠放,于轧膜机进行轧膜得到相应厚度压电陶瓷膜带;S4、对步骤S3得到的膜带进行冲片,用球面模具将压电陶瓷膜带冲成球面坯体,冲成相应的尺寸;S5、使用定曲率模具将步骤S4中冲好的陶瓷生坯片定型为相应曲率半径球面;S6、将步骤S5中曲率定型完成后的压电陶瓷坯体放入制备好的对应曲率的陶瓷底座(6)中,再放上对应曲率的陶瓷压块(605),最后整体放入炉中排胶、烧结。2.根据权利要求1所述的一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,其特征在于,步骤S1中,粘接剂为PVB、增塑剂为DOP、分散剂为三乙醇胺;压电陶瓷粉料:酒精:乙酸丁酯:分散剂=1:0.06‑0.07:0.15‑0.16:0.002‑0.01;粉体:PVB:DOP=1:0.03‑0.05:0.01‑0.03;配制浆料固含量为75%‑82%;浆料粘度1000‑5000mpa.s。3.根据权利要求1所述的一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,其特征在于,步骤S2中,流延膜带厚度:0.05‑0.15mm。4.根据权利要求1所述的一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,其特征在于,步骤S3中,叠轧压缩度为0.4‑0.45,轧膜后的膜带厚度:0.1‑2.2mm。5.根据权利要求1所述的一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,其特征在于,步骤S4中,冲片后的直径:17‑150mm。6.根据权利要求1所述的一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,其特征在于,步骤S5中,定曲率模具采用金属,定型好的曲率半径:15‑150mm。7.根据权利要求1所述的一种聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,其特征在于,步骤S6中,陶瓷底座(6)及陶瓷压块(605)曲率半径:15‑150mm。8.一种聚焦球面压电陶瓷元件制备装置,其特征在于,应用于上述权利要求1‑7任一项所述的聚焦球面压电陶瓷元件制备工艺,所述的装置包括用于陶瓷生坯片定型的定曲率模具和用于压电陶瓷坯体烧结的陶瓷工装,所述定曲率模具包括模具(2)、冲头(3)和气缸(4),且所述模具(2)和气缸(4)的底端设置有底座(1),所述模具(2)的顶端开设有模腔(201),且所述冲头(3)与模腔(201)匹配套接,所述气缸(4)的活塞杆顶端固定连接有活动支架(5),且所述活动支架(5)的顶端设置有电机支架(501),所述电机支架(501)的顶端设置有电机(502)。9.根据权利要求8所述的一种聚焦球面压电陶瓷元件制备装置,其特征在于,所述冲头(3)包括下半球(301)和上半球(303),所述上半球(303)的边缘设置有切刀(304),且所述下半球(301)套接有第一轴承(302),所述上半球(303)贯穿设置有转轴(305),且所述转轴(305)的底端与第一轴承(302)内环套接,所述转轴(305)位于上半球(303)的顶端套接有第二轴承(306),且所述第二轴承(306)外环与活动支架(5)套接,所述转轴(305)顶端贯穿活动支架(5),且所述转轴(305)顶