一种超薄二维过渡金属氮化物单晶结构及其制备方法与应用.pdf
小沛****文章
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一种超薄二维过渡金属氮化物单晶结构及其制备方法与应用.pdf
本发明公开了一种超薄二维过渡金属氮化物单晶结构及其制备方法与应用,属于纳米材料技术领域。主要包括以下步骤:配置不同浓度的过渡金属盐溶液;对蓝宝石基底进行表面预处理,使其表面亲水;利用旋涂仪将过渡金属盐溶液旋涂至蓝宝石基底的表面;在程序升温管式炉中进行化学气相沉积反应制备超薄二维过渡金属氮化物单晶。通过调变调控生长温度及前驱体浓度可控制备不同物相的超薄二维过渡金属氮化物单晶。这种通过调变温度和气氛压力直接熔融过渡金属盐的制备方法,简单易行,可以扩展到其他过渡金属氮化物的可控制备,为后续氮化物薄膜材料的可控制
一种二维过渡金属二硫族化合物单晶及其制备方法和应用.pdf
本发明公开了一种二维过渡金属二硫族化合物单晶及其制备方法和应用。在惰性气氛中,借助常见的可与硫族单质(S,Se)反应的金属和氢气辅助控制体系中S或Se的浓度,以达到控制过渡金属层硫化或硒化程度的目的,利用化学气相沉积方法可控地生长TMDs单晶;将沉积时的温度控制为750℃至850℃,并且沉积时间控制为5至15分钟,完成TMDs单晶的制备;其中通过对基底溅射处理方法、硫族单质粉末用量、吸S/Se金属面积和种类、氢气浓度、生长温度、生长时间等制备参数的优化,实现对高质量二维过渡金属二硫族化合物单晶结构的严格控
一种二维过渡金属硫化物及其制备方法.pdf
本发明涉及一种二维过渡金属硫化物及其制备方法。其技术方案是:将尺寸相同的铝箔和目标金属箔或将尺寸相同的铝箔和两种目标金属箔各一片浸于无水乙醇中,超声清洗,干燥,对齐堆放,得到堆放齐整的金属箔;调整二辊轧机辊缝为0.1mm,将堆放齐整的金属箔共反复对折和轧制15~50次,再于侵蚀剂中浸泡12~48h,过滤,在乙醇溶液中超声处理,取悬浮液,离心和过滤两次,干燥,即得目标二维过渡金属箔;最后将底部铺有目标二维过渡金属箔的瓷舟置于真空管式炉恒温区的下风向,将底部铺有升华硫的瓷舟置于真空管式炉恒温区的上风向;流通氩
一种二维过渡金属磷化物及其制备方法.pdf
本发明涉及一种二维过渡金属磷化物及其制备方法。其技术方案是:将尺寸相同的铝箔和目标金属箔或将尺寸相同的铝箔和两种目标金属箔各一片浸于无水乙醇中,超声清洗,干燥,对齐堆放,得到堆放齐整的金属箔;调整二辊轧机辊缝为0.1mm,将堆放齐整的金属箔共反复对折和轧制15~50次,再于侵蚀剂中浸泡12~48h,过滤,在乙醇溶液中超声处理,取悬浮液,离心和过滤两次,干燥,即得目标二维过渡金属箔;最后将底部铺有目标二维过渡金属箔的瓷舟置于真空管式炉恒温区的下风向,将底部铺有固态磷源的瓷舟置于真空管式炉恒温区的上风向;流通
一种金属衬底磷化铟单晶层及其制备方法及其应用.pdf
本发明涉及半导体领域,尤指一种金属衬底磷化铟单晶层及其制备方法及其应用。包括金属材料衬底,通过以外延剥离工艺将磷化铟(InP)单晶层转移到金属衬底材料上,产生的磷化铟单晶层键合于金属衬底之上,该衬底可制造共振隧穿二极管(RTD)太赫兹波芯片、高电子迁移率晶体管(HEMT)毫米波芯片及垂直共振腔面射型激光(VCSEL)等芯片。与目前以磷化铟衬底的传统结构相比,本发明仅使用一磷化铟单晶薄层,大幅降低衬底成本。对于太赫兹波、毫米波及光电半导体芯片在制造方法提供更大的散热能力,并且在生产过程中温度的分布更均匀,在