一种用于细间距IC封装的键合铜丝及其制造方法.pdf
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一种用于细间距IC封装的键合铜丝及其制造方法.pdf
本发明提供一种用于细间距IC封装的键合铜丝,该键合铜丝由纯度为4N以上且主体氧含量≤5ppm(重量)的铜制成,该键合铜丝的晶体大小呈正态分布,晶体平均粒径为1.6-1.8微米。优选键合铜丝内的孪晶密度小于35%。本发明还提供上述用于细间距IC封装的键合铜丝的制造方法。本发明的键合铜丝硬度极低,并且球焊时得到的变形球的真圆度高,可靠性高,适合于芯片细间距封装的需要。
一种镀银键合铜丝的制造方法.pdf
本发明公开了一种镀银键合铜丝的制造方法,涉及半导体集成电路芯片封装领域,针对镀银键合铜丝在传统的制作过程中,铜丝容易氧化,影响导电性能的问题,现提出如下方案,包括以下步骤:步骤一、原料处理:借助砂纸手动去除铜丝外部的氧化薄膜,然后冷水冲洗,烘干;步骤二、将步骤一中的铜丝拔至成0.8‑1.5mm的铜丝,将所述铜丝放置退火炉中,退火30‑40min,然后取出,放置到充满保护气体的冷却箱中冷却。本发明将镀银保护层分两次完成,并在期间穿插镀锌,不仅可以减少镀银保护层与铜丝之间以及镀银保护层内部气泡,减少铜丝与空气
一种LED封装用超细键合铜合金丝及其制造方法.pdf
本发明提供一种LED封装用超细键合铜合金丝,总氧含量为150~370ppm,磷含量为0~60ppm,余量为高纯铜;其中当该磷含量为0ppm时,该总氧含量为200~370ppm;当该磷含量大于0ppm时,该总氧含量为150~250ppm。本发明相应的制造方法,包括:将含氧量高的高纯铜与含氧量低的高纯铜按预定的比例进行熔炼,获取总氧含量为200~370ppm的线材;或再加入磷,获取总氧含量为150~250ppm,磷含量为60ppm以下的线材;将该线材行多道次拉拔,得到直径为15~50um的键合丝并进行退火处理
一种IC封装用超软键合丝及其制造方法.pdf
本发明提供一种IC封装用超软键合铜合金丝及其制造方法,线材中的氧含量为0~5ppm,钨含量为0.1~2ppm,硫含量为1~10ppm,磷含量为4~200ppm,余量为高纯铜。本发明提供的IC封装用超软键合丝及其制造方法,通过直接调整线材中的氧含量和通过引入磷,借助其去氧能力;通过引入钨、硫并进一步利用forminggas中氢的还原性,降低FAB中的氧含量,降低了FAB的硬度。此外,在上述添加物的基础上,添加了8~200ppm的银,提升了线材的超声软化效能和与IC铝材料的结合能力,拓宽了打线工作窗口,由于
一种LED封装用银合金键合丝及其制造方法.pdf
一种LED封装用银合金键合丝,其特征在于按重量计含有2-3.5%的第一添加成分,10-30ppm的第二添加成分,余量为银;第一添加成分为钯,第二添加成分为金、铂、钙、镁和铁中的一种或其中多种的组合。本发明还提供上述LED封装用银合金键合丝的制造方法,包括下述步骤:(1)熔铸获得线材;(2)拉丝:对线材进行拉丝,获得直径为18-50um的银合金键合丝;在拉丝过程中,在拉丝至直径为0.9100-0.0384mm时进行对线材进行中间退火;(3)最后退火:拉丝完成后,对银合金键合丝进行最后退火,冷却后得到LED封