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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102791770A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102791770A(43)申请公布日2012.11.21(21)申请号201080065292.7(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限(22)申请日2010.12.03公司11243代理人钟晶於毓桢(30)优先权数据(51)Int.Cl.2010-0745222010.03.29JPC08G73/14(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日C08G18/34(2006.01)2012.09.10(86)PCT申请的申请数据PCT/JP2010/0716752010.12.03(87)PCT申请的公布数据WO2011/121848JA2011.10.06(71)申请人日立化成工业株式会社地址日本东京都(72)发明人川上广幸权利要求书权利要求书22页页说明书说明书1515页页(54)发明名称具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺及其制造方法(57)摘要使下述通式(I)所表示的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺与下述通式(II)所表示的降冰片烷三羧酸酐和二异氰酸酯化合物在极性溶剂中反应。由此,提供耐热性和透明性优异的、具有降冰片烷骨架的新的聚酰胺酰亚胺及其制造方法。(其中,式(I)中X为选自碳原子数为4~16的二价脂肪族基团、碳原子数为4~16的二价脂环族基团和二价芳香族基团中的二价有机基团)。CN10279ACN102791770A权利要求书1/2页1.一种下述通式(I)所表示的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺,其中,式中X为选自碳原子数为4~16的二价脂肪族基团、碳原子数为4~16的二价脂环族基团和二价芳香族基团中的二价有机基团。2.一种下述通式(I)所表示的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,其特征在于,使下述通式(II)所表示的降冰片烷三羧酸酐与二异氰酸酯化合物在极性溶剂中反应,其中,式中X为选自碳原子数为4~16的二价脂肪族基团、碳原子数为4~16的二价脂环族基团和二价芳香族基团中的二价有机基团。3.根据权利要求2所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,其特征在于,所述二异氰酸酯化合物为下述通式(III)所表示的二异氰酸酯化合物,OCN-X-NCO(III)其中,式中X为选自碳原子数为4~16的二价脂肪族基团、碳原子数为4~16的二价脂环族基团和二价芳香族基团中的二价有机基团。4.根据权利要求2或3所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,其特征在于,所述通式(II)所表示的降冰片烷三羧酸酐利用包括下述(1)~(3)工序的方法来得到,(1)工序:在含有钌化合物、钴化合物和卤化物盐的催化剂体系的存在下,使下述通式(IV)所表示的降冰片烯二羧酸衍生物与甲酸酯(HCOOR2)反应,制成下述通式(V)所表示的降冰片烷三羧酸衍生物,2CN102791770A权利要求书2/2页其中,式中R为氢或碳原子数为1~8的烷基,其中,式中R为氢或碳原子数为1~8的烷基;(2)工序:对所述通式(V)所表示的降冰片烷三羧酸衍生物的烷氧羰基进行水解,从而得到下述通式(VI)所表示的降冰片烷三羧酸;(3)工序:对所述通式(VI)所表示的降冰片烷三羧酸进行脱水闭环,从而得到所述通式(II)所表示的降冰片烷三羧酸酐。5.根据权利要求4所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,所述钌化合物为在分子内兼具羰基配体和卤素配体的钌络合物。6.根据权利要求4或5所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,所述卤化物盐为季铵盐。7.根据权利要求4~6中任一项所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,所述催化剂体系进一步含有碱性化合物。8.根据权利要求7所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,所述碱性化合物为叔胺化合物。9.根据权利要求4~8中任一项所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,所述催化剂体系进一步含有酚化合物。10.根据权利要求4~9中任一项所述的具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺的制造方法,所述催化剂体系进一步含有有机卤素化合物。3CN102791770A说明书1/15页具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺及其制造方法技术领域[0001]本发明涉及作为具有高耐热性和透明性的聚合物有用的、具有降冰片烷骨架的聚酰胺酰亚胺。此外,本发明涉及其制造方法。背景技术[0002]以往,对于光电子仪器等中所用的光学部件用树脂而言,从向电子基板等的安装工艺、高温工作下的耐热性、机械特性或其通用性考虑,一直广泛使用环氧树脂。但是,近年来,光电子仪器领域中,高强度的激光、蓝色光、近紫外光的利用也扩大,从而需求透明性、耐热性和耐光性比以往更优异的树脂。[0003]通常,环氧树脂在可见光下的透明性高,但在紫外至近紫外区域得不到充分