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气体喷淋头以及气相沉积反应腔.pdf
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秋花****姐姐
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本发明涉及一种应用于III-V族化合物材料沉积反应腔的气体喷淋头，所述反应腔包括气体反应区域，所述气体喷淋头邻近所述反应区域设置，所述气体喷淋头用于向所述反应区域输运反应气体，所述气体喷淋头包括III族源气体腔和V族源气体腔，所述V族源气体腔设置于所述反应区域的一侧，所述III族源气体腔设置于所述V族源气体腔背离所述反应区域的一侧。本发明还提供了一种气相沉积反应腔，所述气相沉积反应腔包括反应腔和上述的气体喷淋头。采用本发明的所述气体喷淋头可以提高V族源气体的利用率；并且，可以防止III族源气体过快分解，从
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本发明涉及一种应用于III-V族材料沉积反应腔的喷淋头，所述反应腔包括气体反应区域，所述喷淋头邻近所述反应区域设置，所述喷淋头包括相互隔离的III族源气体腔、冷却腔和V族源气体腔，所述V族源气体腔邻近所述反应区域设置，所述III族源气体腔设置于所述V族源气体腔背离所述反应区域的一侧，所述冷却腔设置在所述III族源气体腔和V族源气体腔之间。本发明还提供一种具有所述喷淋头的气相沉积反应腔。所述V族源气体腔没有所述冷却腔的阻挡，来自所述反应区域的热辐射能加热所述V族源气体腔，有助V族源气体的分解；并且，所述冷却
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本发明公开了一种喷淋头以及包括所述喷淋头的气相沉积反应腔。所述反应腔包括气体反应区域，所述喷淋头邻近所述反应区域设置，所述喷淋头用于向所述反应区域输出反应气体，所述喷淋头包括相互隔离的III族源气体腔和V族源气体腔，所述V族源气体腔邻近所述反应区域设置，所述III族源气体腔设置于所述V族源气体腔背离所述反应区域的一侧；所述III族源气体腔和V族源气体腔之间至少具有两个相互隔离、层叠设置的冷却腔，所述的至少两个冷却腔用于对从所述V族源气体腔一侧传来的热量进行冷却。因此，能够使得喷淋头内的温度较为缓和的变化，
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本发明提供了一种反应腔及化学气相沉积装置，反应腔包括腔本体和输送盲管，腔本体内具有腔室，腔本体上设置有连通腔室的进气口，输送盲管的开口端与进气口连接，输送盲管的封闭端延伸至腔室内，输送盲管上设置有若干贯穿输送盲管的管壁的分流嘴，分流嘴内设置有连通输送盲管与腔室的排气孔道，分流嘴沿输送盲管的轴向间隔分布，且分流嘴的横截面大小沿封闭端至开口端的方向逐渐增大。本技术方案，在输送盲管上的多个分流嘴使得腔室内的气体均匀分布，保证各处的样品的沉积厚度的均匀性。另外，分流嘴的横截面大小沿封闭端至开口端的方向逐渐增大，使
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