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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103458601A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103458601103458601A(43)申请公布日2013.12.18(21)申请号201310416057.5(22)申请日2013.09.12(71)申请人大连民族学院地址116600辽宁省大连市金州新区辽河西路18号(72)发明人刘东平倪维元(74)专利代理机构大连东方专利代理有限责任公司21212代理人姜玉蓉李洪福(51)Int.Cl.H05H1/24(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书3页说明书3页附图1页附图1页(54)发明名称一种等离子体发生装置(57)摘要本发明公开了一种等离子体发生装置,包括电源、反应腔,反应腔包括框架,框架具有下水平板、中间水平板和上水平板,上水平板与中间水平板之间设置有高压腔,中间水平板与下水平板之间设置有气体腔,下水平板上阵列设置有多个通孔,中间水平板上固定连接有钨针,钨针悬空设置于通孔内,钨针穿透中间水平板设置,中间水平板的上表面密压设置有铝箔纸,钨针与铝箔纸电连接,铝箔纸与高压腔电连接;气体腔的两端设置有进料管道,气体腔通过进料管道连通有质量流量控制器,框架的下方设置有接地电极;该装置还包括示波器、高压探头和电源探头,示波器通过高压探头与电源电连接,电源与高压腔电连接,示波器还通过电源探头与所述接地电极电连接。CN103458601ACN1034586ACN103458601A权利要求书1/1页1.一种等离子体发生装置,包括电源(2),其特征在于:还包括反应腔(1),所述反应腔(1)包括框架(10),所述框架(10)的底部固定连接有下水平板(13),所述框架(10)的中部固定连接有中间水平板(12),所述框架(10)的顶部固定连接有上水平板(11),所述上水平板(11)与中间水平板(12)之间设置有高压腔(8),所述中间水平板(12)与下水平板(13)之间设置有气体腔(9),所述下水平板(13)上阵列设置有多个通孔(14),所述中间水平板(12)上固定连接有与所述通孔(14)位置一一对应的钨针(15),所述钨针(15)悬空设置于通孔(14)内,所述钨针(15)穿透中间水平板(12)设置,所述中间水平板(12)的上表面密压设置有铝箔纸(19),所述钨针(15)与铝箔纸(19)电连接,所述铝箔纸(19)与高压腔(8)电连接;所述气体腔(9)的两端设置有进料管道(18),所述气体腔(9)通过进料管道(18)连通有质量流量控制器(3),所述框架(10)的下方设置有接地电极(4);该等离子体发生装置还包括示波器(5)、高压探头(6)和电源探头(7),所述示波器(5)通过高压探头(6)与电源(2)电连接,所述电源(2)与高压腔(8)电连接,所述示波器(5)还通过电源探头(7)与所述接地电极(4)电连接。2.根据权利要求1所述的一种等离子体发生装置,其特征还在于:所述接地电极(4)由石英板(16)和铜板(17)构成,所述石英板(16)固定连接在铜板(17)的上方。3.根据权利要求1所述的一种等离子体发生装置,其特征还在于:工作状态下,所述反应腔(1)的下水平板(13)距预处理材料表面的距离在1mm范围内。2CN103458601A说明书1/3页一种等离子体发生装置技术领域[0001]本发明涉及在大气压条件下,利用多层石英板中内嵌钨针电极通过注入反应气体(空气)产生大面积阵列式微等离子体的生产设备,尤其涉及一种应用于清洗材料表面的阵列式等离子体发生装置。背景技术[0002]目前,很多材料表面的性能有很大的缺陷,不能满足现实生活中的需求,从大的行业角度来讲包括电子、汽车、朔料、医疗、轻纺等与我们密切相关的领域。然而我们尝试用不同的方法来处理其表面,使其达到一定的性能指标,这种技术我们也可称之为表面清洗技术,材料表面清洗有很多方法,有化学方法、有物理方法,传统的清洗方法大多为化学清洗,比如常用的清洗液,但是清洗液的化学试剂对要清洗的材料表面工艺有很大影响,而且清洗液大多数是酸或碱性溶液,产生环境污染,不利于环保,因此传统的清洗方法已不能满足现今社会的需要。随着科技的发展,等离子体清洗技术已逐步深入到各行各业中,等离子体清洗是不分处理对象、基材类型均可进行处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗,具有良好的均匀性和重复性。但是现有等离子体清洗设备,大多为射频或微波等离子体清洗设备,这些设备不仅体型庞大成本高,而且耗能高,有的还需要复杂的真空系统,它更适合于实验室研究等,不能满足现代化市场的迅速需求。发明内容[0003]根据现有技术存在的问题,本发明公开了一种等离子体发生装置,包括电源,还包括反应腔,所述反应腔包括框架,所述框架的底部固定连接有下水平板,所述