具有低灰分含量的基于丙烯的聚合物及方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103764693103764693A(43)申请公布日2014.04.30(21)申请号201280042302.4H01B3/00(2006.01)(22)申请日2012.07.26(30)优先权数据61/512,5922011.07.28US(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.02.28(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2012/0482302012.07.26(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/016478EN2013.01.31(71)申请人陶氏环球技术有限责任公司地址美国密歇根州(72)发明人C-J.周(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所11105代理人吴培善(51)Int.Cl.C08F10/06(2006.01)C08F4/651(2006.01)权利要求书1页权利要求书1页说明书15页说明书15页(54)发明名称具有低灰分含量的基于丙烯的聚合物及方法(57)摘要本发明提供一种生产免清洗的基于丙烯的聚合物的方法，该聚合物可用作介电膜且具有低的总灰分含量。该基于丙烯的聚合物包含取代的亚苯基芳族二酯，并且适宜用作电子装置的介电材料。CN103764693ACN1037649ACN103764693A权利要求书1/1页1.一种方法，包括：在聚合条件下，使丙烯和任选的一种或多种共聚单体与含有取代的亚苯基芳族二酯的催化剂组合物接触；和形成总灰分含量小于30ppm的免清洗的基于丙烯的聚合物。2.权利要求1的方法，包括形成免清洗的基于丙烯的聚合物，该聚合物的性质选自以下：具有0ppm-10ppm铝、0ppm-10ppm氯、0ppm-10ppm镁、0ppm-10ppm钛、及其组合。3.权利要求1的方法，包括形成二甲苯可溶物含量小于6.0wt％的基于丙烯的聚合物。4.权利要求1的方法，包括：使丙烯与包含取代的亚苯基芳族二酯的催化剂组合物接触，该取代的亚苯基芳族二酯为3-甲基-5-叔丁基-1,2-亚苯基二苯甲酸酯；和形成丙烯均聚物。5.权利要求1的方法，包括：使丙烯和乙烯与包含取代的亚苯基芳族二酯的催化剂组合物接触，该取代的亚苯基芳族二酯为3-甲基-5-叔丁基-1,2-亚苯基二苯甲酸酯；和形成丙烯/乙烯共聚物。6.权利要求1的方法，包括：使所述基于丙烯的聚合物双轴取向；和形成厚度为2微米-20微米的膜。7.权利要求1的方法，包括形成膜，该膜的厚度为2微米-20微米，和根据DINIEC243-2测定的介电强度为620KV/mm-720KV/mm。8.权利要求1的方法，包括用所述免清洗的基于丙烯的聚合物涂布电部件。9.权利要求1的方法，包括用所述免清洗的基于丙烯的聚合物涂布电部件，该电部件选自变压器、电容器、开关、稳定器、电路断路器、自动继电器、流体填充的传输线、及其组合。10.权利要求1的方法，包括在电部件上形成包含所述免清洗的基于丙烯的聚合物的膜。11.权利要求1的方法，包括在电容器上形成厚度为2微米-20微米的膜，该膜包含所述免清洗的基于丙烯的聚合物，且总灰分含量小于30ppm。2CN103764693A说明书1/15页具有低灰分含量的基于丙烯的聚合物及方法背景技术[0001]本公开提供一种具有低的总灰分含量的基于丙烯的聚合物，生产其的方法，以及包含其的装置。[0002]催化剂残留物不利地影响介电聚合物膜的性能。例如，为了除去催化剂残留物并降低总灰分含量，通常在将常规基于丙烯的聚合物用作介电材料之前对其进行清洗。然而，清洗比较昂贵、耗时，还需要另外的处理资源。[0003]本领域技术人员意识到需要具有低的总灰分含量的基于丙烯的聚合物用于介电应用。进一步期望具有低的总灰分含量且不需要清洗过程但是仍然表现出可接受的低催化剂残留量以用作介电材料的基于丙烯的聚合物。发明内容[0004]本公开提供一种方法。在一种实施方式中，提供一种生产基于丙烯的聚合物的方法，该方法包括：在聚合条件下，使丙烯和任选的一种或多种共聚单体与含有取代的亚苯基芳族二酯的催化剂组合物接触。该方法包括形成总灰分含量小于40ppm或小于30ppm的免清洗的基于丙烯的聚合物。[0005]在一种实施方式中，该方法包括将该免清洗的基于丙烯的聚合物双轴取向成厚度为2微米-20微米的膜。双轴取向的膜的总灰分含量小于40ppm或小于30ppm。[0006]本公开提供一种膜及生产其的方法。在一种实施方式中，膜包括免清洗的基于丙烯的聚合物。该免清洗的基于丙烯的聚合物包括取代的亚苯基芳族二酯。免清洗的基于丙烯的聚合物的总灰分含量小于40ppm或小于30ppm。[0007]在一种实施方式中，膜的二甲苯可溶物含量为小于6.0wt％。[0008]在一种实施方式中，