感光性聚硅氧烷组合物及其应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103901728103901728A(43)申请公布日2014.07.02(21)申请号201310704085.7(22)申请日2013.12.19(30)优先权数据1011496662012.12.25TW(71)申请人奇美实业股份有限公司地址中国台湾台南市(72)发明人吴明儒施俊安(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127代理人姚亮(51)Int.Cl.G03F7/075(2006.01)G03F7/008(2006.01)G03F7/027(2006.01)G03F7/004(2006.01)权利要求书1页权利要求书1页说明书18页说明书18页(54)发明名称感光性聚硅氧烷组合物及其应用(57)摘要本发明有关一种感光性聚硅氧烷组合物。该感光性聚硅氧烷组合物包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分；以及溶剂(E)。该感光性聚硅氧烷组合物具有感光度佳及折射率佳的优点。本发明还提供一种于一基板上形成薄膜的方法、一种基板上的薄膜及一种装置。CN103901728ACN1039728ACN103901728A权利要求书1/1页1.一种感光性聚硅氧烷组合物，其包含：聚硅氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)每分子包含至少六个(甲基)丙烯酰基；无机粒子(D)，其中，所述无机粒子(D)以第四族元素的氧化物为主要成分；以及溶剂(E)。2.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)为每分子至少含有七个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。3.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)为每分子至少含有八个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。4.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，基于所述聚硅氧烷聚合物(A)的使用量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为1至50重量份；所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为0.1至35重量份；所述无机粒子(D)的使用量为5至120重量份；及所述溶剂(E)的使用量为50至2000重量份。5.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述聚硅氧烷聚合物A是由下列结构式1所表示的硅烷单体经加水分解及缩合反应而得；abSi(R)t(OR)4-t结构式(1)其中：Ra选自由氢原子、碳数1至10的烷基、碳数2至10的烯基、碳数6至15的芳基、经酸酐基取代的碳数1至10的烷基、经环氧基取代的碳数1至10的烷基及经环氧基取代的烷氧基所组成的群；Rb选自由氢原子、碳数1至6的烷基、碳数1至6的酰基及碳数6至15的芳基所组成的群；及t表示0至3的整数，且当t表示2或3时，几个Ra各自为相同或不同；且当4-t表示2或3时，几个Rb各自为相同或不同。6.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述无机粒子(D)中第四族元素为钛或锆。7.根据权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物，其中，所述无机粒子(D)的粒径大小为1nm至100nm。8.一种于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用权利要求1至7任一项所述的感光性聚硅氧烷组合物施予所述基板上的步骤。9.一种基板上的薄膜，其是由权利要求8所述的方法所制得的。10.根据权利要求9所述的薄膜，其为液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板用的平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路的芯材或包覆材的保护膜。11.一种装置，其包含权利要求9或10所述的薄膜，该装置包括显示组件、半导体组件或光波导路。2CN103901728A说明书1/18页感光性聚硅氧烷组合物及其应用技术领域[0001]本发明有关一种感光性聚硅氧烷组合物及使用该组合物所形成的薄膜及装置，特别提供一种感光度佳及折射率佳的感光性聚硅氧烷组合物。背景技术[0002]近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等各领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于微影工艺中图案所需的微细化要求日益增高。业界为了达到微细化的图案，一般是透过具有高解析及高感光度的正型感光度材料经曝光及显影后而形成，其中，包含聚硅氧烷聚合物成分的正型感光度材料渐成为业界使用的主流。[0003]日本公开特许第2008-107529号揭示了一种可形成高透明度硬化膜的感光性聚