壳体组件、制备方法和电子设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113714647A(43)申请公布日2021.11.30(21)申请号202010453338.8(22)申请日2020.05.26(71)申请人OPPO广东移动通信有限公司地址523860广东省东莞市长安镇乌沙海滨路18号(72)发明人李明阳(74)专利代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201代理人尹璐(51)Int.Cl.B23K26/362(2014.01)B23K26/402(2014.01)B23K26/60(2014.01)H05K5/02(2006.01)权利要求书1页说明书9页附图3页(54)发明名称壳体组件、制备方法和电子设备(57)摘要本申请公开了壳体组件、制备方法和电子设备，该方法包括：提供基体，所述基体是由陶瓷形成的；在所述基体的一侧形成镀膜层，所述镀膜层被配置为可提高所述基体对波长为1000～1100nm的光的吸收率；利用激光对具有所述镀膜层的所述基体进行刻蚀处理，以去除预定区域的所述镀膜层以及部分所述基体，并形成纹理图案。由此，可在陶瓷基体表面形成一层平整的镀膜层，该镀膜层可提高陶瓷材料对波长为1000～1100nm的光的吸收率，以提高陶瓷对该波段光的吸收率，降低断线、雕痕深浅不均的发生概率，从而使激光对所述具有镀膜层的所述基体进行有效刻蚀以形成纹理图案，缓解刻蚀断线的问题。CN113714647ACN113714647A权利要求书1/1页1.一种制备壳体组件的方法，其特征在于，包括：提供基体，所述基体是由陶瓷形成的；在所述基体的一侧形成镀膜层，所述镀膜层被配置为可提高所述基体对波长为1000～1100nm的光的吸收率；利用激光对具有所述镀膜层的所述基体进行刻蚀处理，以去除预定区域的所述镀膜层以及部分所述基体，并形成纹理图案。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述镀膜层是利用磁控溅射或真空蒸镀技术形成的，所述镀膜层包括至少一个亚层。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，形成所述镀膜层的材料包括过渡金属及其合金、过渡金属碳化物、过渡金属氮化物、C和Si的至少之一；任选地，形成所述镀膜层的材料包括Ni、Ti、Fe、Cr、Nb、Zn、Mn、W的至少之一；优选地，形成所述镀膜层的材料包括Ti、Ni、Fe、Cr、C、Nb及其碳化物。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述镀膜层最厚处和最薄处的厚度偏差不大于5％。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述镀膜层的厚度为10～100nm，优选地，所述镀膜层的厚度为20～40nm。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，利用激光对所述基体进行刻蚀处理的刻蚀功率为10～100W，所述激光的光斑移动速度为100～1000mm/s，所述激光的脉冲重复频率为1～1000KHz，所述激光的脉冲宽度为100～500ns，所述刻蚀处理形成的雕痕深度为0.001～0.1mm。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括以下步骤的至少之一：在形成所述镀膜层之前，对所述基体进行第一抛光处理，所述第一抛光处理包括物理抛光以及化学机械抛光的至少之一，以令所述第一抛光处理后所述基体的表面粗糙度Ra小于10nm；在形成所述镀膜层之前，对所述基体进行清洗处理；在所述刻蚀处理之后，对形成有所述纹理图案的所述基体进行退镀处理，以去除残留的所述镀膜层；对形成有所述纹理图案的所述基体进行第二抛光处理。8.一种壳体组件，其特征在于，包括：基体，所述基体是由陶瓷形成的，所述基体表面具有纹理图案，所述纹理图案是在所述基体表面具有镀膜层时，利用激光对所述基体进行刻蚀而形成的。9.根据权利要求8所述的壳体组件，其特征在于，所述纹理图案包括多个条纹，相邻的两条所述条纹之间的最小间距为20μm～100μm，单根所述条纹的宽度为50～200μm。10.一种电子设备，其特征在于，包括：壳体组件，所述壳体组件为权利要求8或9所述的，或者为权利要求1-7任一项所述的方法获得的；以及主板和显示屏幕，所述主板和所述显示屏幕收纳于所述壳体组件中。2CN113714647A说明书1/9页壳体组件、制备方法和电子设备技术领域[0001]本申请涉及电子领域，具体地，涉及壳体组件、制备方法和电子设备。背景技术[0002]陶瓷具有硬度高、机械强度高、耐磨、耐氧化等优点，但是，陶瓷材料不能够利用类似于玻璃、复合板材等材料的贴装装饰膜的方式形成具有特定颜色或图案的外观效果，也难以利用诸如金属板材的阳极氧化并染色的方式形成丰富的颜色效果。因此，陶瓷板材的外观效果仍有待提升。特别是目前的陶瓷板材难以形成哑光、仿冰裂、仿拉丝、仿皮纹、仿光栅等外观效果。[0003]因此，目前的壳体组件、制备方法和电子设备仍有待提高。发明内