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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115755273A(43)申请公布日2023.03.07(21)申请号202211346505.4(22)申请日2022.10.31(71)申请人北京自动化控制设备研究所地址100074北京市丰台区云岗北里1号院3号楼(72)发明人尚克军雷明李豪伟于晓之张丽哲(51)Int.Cl.G02B6/122(2006.01)G02B6/125(2006.01)G02B6/14(2006.01)G02B6/136(2006.01)G02B6/132(2006.01)G02B6/26(2006.01)G01C19/72(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图3页(54)发明名称硅基光分路集成芯片、集成化光纤陀螺、制备及连接方法(57)摘要本发明提供了一种硅基光分路集成芯片、集成化光纤陀螺、制备及连接方法,其中硅基光分路集成芯片包括包层,包层内设置波导结构,波导结构包括两根直波导、n‑1根弯曲波导,n为待连接的复用型光纤环圈的纤芯根数;n‑1根弯曲波导用于将复用型光纤环圈n根纤芯连通为一条光路,直波导一端用于连接相位调制器的一个光信号端口、另一端连接复用型光纤环圈对应端口剩余的一根纤芯。本发明硅基光分路集成芯片可实现光纤环圈多纤芯间的通道切换,减小结构尺寸,简化加工工艺,降低成本,提高光路一致性。CN115755273ACN115755273A权利要求书1/2页1.一种硅基光分路集成芯片,其特征在于,包括包层,所述包层内设置波导结构,所述波导结构包括两根直波导、n‑1根弯曲波导,n为待连接的复用型光纤环圈的纤芯根数;所述n‑1根弯曲波导用于将复用型光纤环圈n根纤芯连通为一条光路,所述直波导一端用于连接相位调制器的一个光信号端口、另一端连接复用型光纤环圈对应端口剩余的一根纤芯。2.根据权利要求1所述的硅基光分路集成芯片,其特征在于,所述硅基光分路集成芯片包括相对的第一连接面、第二连接面,所述第一连接面包括两根直波导的第一端口,所述第二连接面包括第一、第二波导阵列,所述第一波导阵列包括n‑1根弯曲波导的第一端口和一根直波导的第二端口,所述第二波导阵列包括n‑1根弯曲波导的第二端口和另一根直波导的第二端口;所述第一、第二波导阵列均与复用型光纤环圈纤芯位置对应,所述n‑1根弯曲波导交错连接不同的纤芯。3.根据权利要求1所述的硅基光分路集成芯片,其特征在于,所述直波导、弯曲波导端口位置均设置模式转换器,所述模式转换器为锥形结构。4.根据权利要求1所述的硅基光分路集成芯片,其特征在于,所述直波导端口与相位调制器光信号端口直接对接,或者二者通过一段光纤连接。5.根据权利要求1所述的硅基光分路集成芯片,其特征在于,所述直波导、弯曲波导均为单模矩形条波导结构。6.一种集成化紧凑型光纤陀螺,其特征在于,包括权利要求1~5中任一项所述的硅基光分路集成芯片,还包括复用型光纤环圈,所述复用型光纤环圈采用多芯光纤绕制,所述硅基光分路集成芯片分别连接相位调制器和复用型光纤环圈。7.一种如权利要求1~5中任一项所述的硅基光分路集成芯片的制备方法,其特征在于,所述硅基光分路集成芯片包括3根弯曲波导,包括如下步骤芯片清洗、吹干;在芯片一侧硅芯层上均匀涂敷光刻胶,在光刻胶上曝光一层波导图形;芯片进行显影、定影,对该侧硅芯层进行刻蚀,芯片去除光刻胶、吹干;在芯片另一侧硅芯层上均匀涂敷光刻胶,在光刻胶上曝光二层波导图形;芯片进行显影、定影,对该侧硅芯层进行刻蚀,芯片去除光刻胶、吹干;在芯片两侧沉积二氧化硅包层。8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述芯片采用超声清洗浸泡,清洗溶液依次为丙酮、甲醇和异丙醇,所述芯片采用氮气枪吹干;所述涂敷光刻胶采用匀胶机,通过离心力控制光刻胶均匀分布,通过匀胶机转速控制光刻胶厚度;所述波导图形采用电子束光刻实现;所述硅芯层采用ICP刻蚀;所述包层采用PECVD沉积。9.一种如权利要求1~5中任一项所述的硅基光分路集成芯片与复用型光纤环圈的连接方法,其特征在于,包括如下步骤选择光源和2*2耦合器,将2*2耦合器第一端口连接光源,第二端口空置,第三、第四端口连接硅基光分路集成芯片两个直波导端口;光源发出激光,将复用型光纤环圈X端口靠近硅基光分路集成芯片第一波导阵列,通过2CN115755273A权利要求书2/2页调整复用型光纤环圈X端口的位置,使得复用型光纤环圈Y端口输出信号光强最大;调整复用型光纤环圈X端口的角度,使得复用型光纤环圈Y端口输出信号消光比最大,将X端口和第一波导阵列耦合;将复用型光纤环圈Y端口靠近硅基光分路集成芯片第二波导阵列,通过调整复用型光纤环圈Y端口的位置,使得2*2耦合器第二端口输出信号光强最大;调整复用型光纤环圈Y端口的角度,使得2*2耦合器第二端