一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂及其制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114736428A(43)申请公布日2022.07.12(21)申请号202210510033.5(22)申请日2022.05.11(71)申请人宿迁联盛科技股份有限公司地址223800江苏省宿迁市生态化工科技产业园扬子路88号(72)发明人李军林俊义胡新利梁小龙乔旺李大伟(74)专利代理机构南京众联专利代理有限公司32206专利代理师王荷英(51)Int.Cl.C08K5/3492(2006.01)C08J5/18(2006.01)C08L23/06(2006.01)C07D401/14(2006.01)权利要求书2页说明书8页(54)发明名称一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种新型低碱性受阻胺光稳定剂及其制备方法，其结构式如式Ⅰ所示，该受阻胺光稳定剂为单体型中分子低碱性受阻胺光稳定剂，较高的分子量，使其具有突出的耐迁移性能；同时，其与聚合物具有较好的相容性，低碱性及与酚类抗氧剂具有良好的协同作用；与此同时，本发明所述的制备方法操作简单，产品收率高、制备成本适宜。CN114736428ACN114736428A权利要求书1/2页1.一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂，其特征在于，结构式如式Ⅰ所示：式Ⅰ中，取代基R1、R2彼此独立地为氢、C1‑C22烷基、C1‑C18烷氧基、由羟基取代的C2‑C18烷氧基、C5‑C12环烷基、C5‑C12环烷氧基、C3‑C6烯基、C3‑C6烯氧基、未取代或苯基上1、2或3个C1‑C4烷基取代的C7‑C9苯基烷基、或酰基；式Ⅰ中，取代基R3、R4彼此独立地为氢、C1‑C10烷基或C5‑C12环烷基。2.根据权利要求1所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂，其特征在于，所述R1、R2彼此独立地为氢、C1‑C8烷基、C1‑C18烷氧基或环己氧基。3.根据权利要求2所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂，其特征在于，所述R1、R2彼此独立地为氢、甲基、甲氧基、乙氧基、丙氧基或环己氧基。4.根据权利要求1所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂，其特征在于，所述R3、R4彼此独立地为氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、2‑乙基丁基、正戊基、异戊基、1‑甲基戊基、1,3‑二甲基丁基、正己基、1‑甲基己基、正庚基、异庚基、1,1,3,3‑四甲基丁基、1‑甲基庚基、3‑甲基庚基、正辛基、2‑乙基己基、1,1,3‑三甲基己基、1,1,3,3‑四甲基戊基、壬基、癸基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环癸基、环十二烷基。5.一种如权利要求1‑4任一项所述的单体型低碱性受阻胺光稳定剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：由式Ⅱ所示的化合物与由式Ⅲ所示的化合物加入溶剂条件下制备得到式Ⅰ所示的受阻胺化合物；式Ⅱ为：2CN114736428A权利要求书2/2页其中，取代基R1、R2彼此独立地为氢、C1‑C22烷基、C1‑C18烷氧基、由羟基取代的C2‑C18烷氧基、C5‑C12环烷基、C5‑C12环烷氧基、C3‑C6烯基、C3‑C6烯氧基、未取代或苯基上1、2或3个C1‑C4烷基取代的C7‑C9苯基烷基；或酰基。式Ⅲ为：其中取代基R3、R4彼此独立地为氢、C1‑C10烷基、C5‑C12环烷基。6.根据权利要求5所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂的制备方法，其特征在于，所述式Ⅱ化合物与式Ⅲ化合物的摩尔比为2.5:1‑3.0:1。7.根据权利要求5所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂的制备方法，其特征在于，所述溶剂为苯甲苯、二甲苯、三甲苯、己烷、庚烷、辛烷和癸烷中的一种或多种；式Ⅱ表示的化合物与溶剂的摩尔体积比为1.0‑1.5：1。8.根据权利要求5所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂的制备方法，其特征在于，所述R1、R2彼此独立地为氢、C1‑C8烷基、C1‑C18烷氧基或环己氧基。9.根据权利要求5所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂的制备方法，其特征在于，所述R1、R2彼此独立地为氢、甲基或丙氧基。10.根据权利要求5所述的一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂的制备方法，其特征在于，所述R3、R4彼此独立地为氢、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、2‑乙基丁基、正戊基、异戊基、1‑甲基戊基、1,3‑二甲基丁基、正己基、1‑甲基己基、正庚基、异庚基、1,1,3,3‑四甲基丁基、1‑甲基庚基、3‑甲基庚基、正辛基、2‑乙基己基、1,1,3‑三甲基己基、1,1,3,3‑四甲基戊基、壬基、癸基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环癸基或环十二烷基。3CN114736428A说明书1/8页一种单体型低碱性受阻胺光稳定剂及其制备方法技术领域[0001]本发明属于受阻光稳定剂技术领域，具体涉及一种单体型中分子