

SiC晶片的加工方法.pdf
一吃****春晓
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相关资料
SiC晶片的加工方法.pdf
本发明提供SiC晶片的加工方法,避免SiC晶片破损或损伤。该方法包含:保护部件配设工序,在SiC晶片的正面上配设保护部件;磨削工序,将保护部件侧保持于第1卡盘工作台,残留与外周剩余区域对应的区域而在与器件区域对应的区域定位磨削磨具来进行磨削,在外周剩余区域残留环状增强部而将SiC晶片薄化;金属膜包覆工序,在至少与器件区域对应的背面上包覆金属膜;剥离工序,将保护部件剥离;一体化工序,将SiC晶片与框架一体化;环状增强部去除工序,使器件区域与外周剩余区域的边界断裂而将环状增强部去除;分割预定线检测工序,从第2
SiC外延晶片和SiC外延晶片的制造方法.pdf
本发明的目的在于得到能够测定外延层总厚度和漂移层厚度的SiC外延晶片及其制造方法。该SiC外延晶片具备SiC基板和层叠于所述SiC基板上的外延层,所述外延层从所述SiC基板侧依次具有第1层、第2层和第3层,所述SiC基板的氮浓度为6.0×10<base:Sup>18</base:Sup>cm<base:Sup>?3</base:Sup>以上且1.5×10<base:Sup>19</base:Sup>cm<base:Sup>?3</base:Sup>以下,所述第1层的氮浓度为1.0×10<base:Sup>
SiC晶片制造方法.pdf
本发明公开了一种SiC晶片制造方法,其包括如下步骤:(1)预备SiC晶锭;(2)设置激光辐射路径;(3)提供气源;(4)分离。本发明提供的方法步骤简洁,易于实现,合理设置由外而内的激光辐射路径,为气体的进入提供及时、有效地通道;在SiC晶锭被激光辐照时,引入气体发生器,为副产物的移除提供源源不断的气体式动力和反应气源,有效加速SiC分离层的激光烧蚀与分解,同时气体与副产物中的碳等化学反应以及配合物理吹扫移除副产物,避免出现已分解产物重新结晶滞留以及已分解产物阻碍激光再烧蚀分离层的现象,实现SiC晶片快速从
SiC晶片的退火方法.pdf
本发明涉及一种SiC晶片的退火方法,首先将SiC晶片装入陶瓷工装中,陶瓷工装置于陶瓷坩埚内,陶瓷工装和陶瓷坩埚中间用SiC粉填满;直接升温至低温度区域200℃~400℃,保温3~6小时,此阶段升温时间≥1.5小时;保温后,升温至中温区域500℃~700℃,保温5~10小时,此阶段升温时间≥2.5小时;经过中温保温后,升温至高温区域800℃~1900℃,保温10~20小时,此阶段升温时间≥10小时;高温保温结束后,以每小时10℃~15℃降温至室温,出炉。采用该方法退火的晶片加工应力基本消除,整个晶片退火均匀
SiC晶片加工技术现状与趋势.docx
SiC晶片加工技术现状与趋势标题:SiC晶片加工技术现状与趋势摘要:随着电子设备的不断升级和电力电子技术的发展,SiC(碳化硅)晶片作为一种新型的高性能半导体材料,在能源领域和电力电子应用中得到了广泛应用。然而,SiC晶片的加工技术依然面临着一系列的挑战。本文将综述当前SiC晶片加工技术的现状,并针对其发展趋势进行展望,以期为相关研究和应用提供参考。一、SiC晶片加工技术现状SiC晶片加工技术主要包括晶体生长、晶片切割、表面处理和结构定义等方面。当前SiC晶片加工技术已取得了一定的突破和发展,但仍面临着以