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本发明公开了一种基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅,该光栅的基底是石英,第一层材料为MgF2,深度为h1,第二层材料为石英,深度为h2。该光栅的周期d为706~727纳米,脊宽b为396~418纳米,倾斜角θ为18~19度,h1为452~504纳米,h2为691~743纳米,在正入射的情况下该光栅结构具有454~630纳米的波长带宽。本发明是一种适用于RGB三基色(中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米)的高效率偏振无关斜双层光栅,由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成,其取材方便,结构简单,容差大,造价小,能大批量生产,可应用于AR、VR等三维成像显示技术。