光刻胶、显示面板及其制作方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115826356A(43)申请公布日2023.03.21(21)申请号202211601314.8G02F1/1333(2006.01)(22)申请日2022.12.13G03F7/075(2006.01)(71)申请人TCL华星光电技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号(72)发明人朱钦富李林霜段淼陈黎暄(74)专利代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司44570专利代理师杨瑞(51)Int.Cl.G03F7/004(2006.01)G03F7/20(2006.01)G03F7/30(2006.01)G03F7/32(2006.01)G02F1/1362(2006.01)权利要求书1页说明书8页附图2页(54)发明名称光刻胶、显示面板及其制作方法(57)摘要本申请实施例公开了一种光刻胶、显示面板及其制作方法；该光刻胶包括感光结构及与该感光结构连接的树脂结构，其中，该感光结构用于该光刻胶的曝光显影，该树脂结构用于该光刻胶的蒸镀；本申请通过将感光结构与树脂结构接枝结合，形成可蒸镀的光刻胶，利用蒸镀将光刻胶形成于基板之上，形成较薄的光刻胶，从而提高图案化精度，改善工艺精度，降低显示面板的制作难度。CN115826356ACN115826356A权利要求书1/1页1.一种光刻胶，其特征在于，包括：感光结构；树脂结构，与所述感光结构连接；其中，所述感光结构用于所述光刻胶的曝光显影，所述树脂结构用于所述光刻胶的蒸镀。2.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述树脂结构的分子量为200Da至2000Da。3.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述树脂结构包括酚醛树脂、丙烯酸树脂、有机硅树脂中任一种或多种的组合。4.根据权利要求3所述的光刻胶，其特征在于，所述树脂结构包括至少一支链。5.根据权利要求1所述的光刻胶，其特征在于，所述感光结构包括感光基团，所述感光基团包括重氮萘醌基团、二苯甲酮、二苯甲酮衍生物、苯乙酮衍生物、噻吨酮、噻吨酮衍生物、苯偶酰、苯偶酰衍生物、苯偶姻、苯偶姻衍生物、1‑苯基‑1,2‑丙二酮‑2‑(O‑乙氧基羰基)肟、1‑苯基1,2‑丁二酮‑2‑(邻甲氧基羰基)肟、1,3‑二苯基丙三酮‑2‑(邻乙氧基羰基)肟中的任一种或者两种。6.根据权利要求5所述的光刻胶，其特征在于，所述感光结构还包括改性基团，所述改性基团为苯酚类化合物及其衍生物。7.根据权利要求6所述的光刻胶，其特征在于，所述改性基团包括对羟基苄、3、4‑2羟基苯、2，3，4‑三羟基二苯甲酮、2，4，4′‑三羟基二苯甲酮、2，2′，4‑三羟基二苯甲酮、2，3，4，4′‑四羟基二苯甲酮、2，2′，3，4‑四羟基二苯甲酮、2，4，2′，4′‑四羟基二苯甲酮、2，3，4‑三羟基苯乙酮、2，4‑二羟基苯乙酮中任一种或多种的组合。8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板；在所述基板上蒸镀如权利要求1至7中任一项所述的光刻胶；对所述光刻胶进行曝光显影。9.根据权利要求8所述的显示面板的制作方法，其特征在于，蒸镀所述光刻胶的温度为150℃至220℃。10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板为利用如权利要求8或9所述的显示面板的制作方法制得。2CN115826356A说明书1/8页光刻胶、显示面板及其制作方法技术领域[0001]本申请涉及显示领域，具体涉及一种光刻胶、显示面板及其制作方法。背景技术[0002]近些年，显示面板的制作精度要求越来越高，由于目前显示面板的匀胶工艺使用的是狭缝涂布，其膜厚涂布范围在2μm至10μm，无法满足精细化的制程要求。[0003]因此，亟需一种光刻胶、显示面板及其制作方法以解决上述技术问题。发明内容[0004]本申请提供一种光刻胶、显示面板及其制作方法，可以缓解目前光刻胶涂布厚度较厚的技术问题。[0005]本申请提供一种光刻胶，包括：[0006]感光结构；[0007]树脂结构，与所述感光结构连接；[0008]其中，所述感光结构用于所述光刻胶的曝光显影，所述树脂结构用于所述光刻胶的蒸镀。[0009]在一些实施例中，所述树脂结构的分子量为200Da至2000Da。[0010]在一些实施例中，所述树脂结构包括酚醛树脂、丙烯酸树脂、有机硅树脂中任一种或多种的组合。[0011]在一些实施例中，所述树脂结构包括至少一支链。[0012]在一些实施例中，所述感光结构包括感光基团，所述感光基团包括重氮萘醌基团、二苯甲酮、二苯甲酮衍生物、苯乙酮衍生物、噻吨酮、噻吨酮衍生物、苯偶酰、苯偶酰衍生物、苯偶姻、苯偶姻衍生物、1‑苯基‑1,2‑丙二酮‑2‑(O‑乙氧基羰基)肟、1‑苯基1,2‑丁二酮‑2‑(邻甲氧基羰基)肟、1,3‑二苯基丙三酮‑2‑(邻乙氧基羰