负性光刻胶及其制备方法、显示面板及其制作方法.pdf
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负性光刻胶及其制备方法、显示面板及其制作方法.pdf
本申请属于光刻胶技术领域,具体涉及负性光刻胶及其制备方法、显示面板及其制作方法。其中,负性光刻胶的制备方法包括:获取初始碱可溶性树脂,所述初始碱可溶性树脂中含有热引发剂;去除热引发剂,以制得目标碱可溶性树脂;将所述目标碱可溶性树脂与光刻胶基础材料按照预设比例进行混合,以制得不含热引发剂的负性光刻胶。本申请通过提纯初始碱可溶性树脂,减少或去除热引发剂,可延缓或避免热引发剂产生的小分子积聚在掩膜板上,保证了曝光精度和工厂的产能。
导电薄膜及其制备方法、显示基板的制作方法及显示面板.pdf
本发明提供一种导电薄膜及其制备方法、显示基板的制作方法及显示面板,所述导电薄膜的制备方法包括:在基板上形成导电微球承载层,导电微球承载层形成有若干承载孔;在导电微球承载层上形成分离层;将导电微球自组装至承载孔内;在自组装符合预设要求的基板上形成胶粘剂薄膜,在胶粘剂薄膜上粘附第一离型膜;将基板、导电微球承载层以及分离层剥离,在露出导电微球的一侧粘附第二离型膜。根据本发明实施例的制备方法,降低了制备过程中对导电微球的尺寸和密度的苛刻要求,降低了发光器件和电路背板间键合导通所需的压力,制备得到的导电薄膜中导电微
显示面板母板、显示面板及其制作方法.pdf
本发明涉及一种显示面板母板,包括多个显示基板,显示基板包括阵列基板、有机发光单元及封装层;阵列基板具有至少一个开槽预留区,有机发光单元形成于阵列基板,且位于开槽预留区外的区域,封装层形成于有机发光单元背离阵列基板一侧,且覆盖开槽预留区;显示基板还包括刻蚀保护层,刻蚀保护层形成于封装层背离阵列基板的一侧。采用干法蚀刻工艺将开槽预留区的各膜层去除开槽,相比现有技术中的利用激光切割或刀轮切割,避免了切割过程中安装槽边缘的膜层、线路损伤造成的开槽区边缘显示异常及传感不良,从而提高了显示面板的生产良率。还提供一种显
显示面板及其制作方法.pdf
本申请实施例提供了一种显示面板及其制作方法,该显示面板包括:层叠的电磁组件和显示组件,其中,所述电磁组件位于所述显示组件的非显示侧,包括支撑部以及位于所述支撑部一侧的多条电磁走线,以利用所述多条电磁走线,实现触控检测,从而解决电容触控检测存在的感应面积大、不均匀、触控检测滞留感强、灵敏度低、误触和断点等问题,使得所述显示面板在实现触控时,可以集笔控、手写、笔迹识别多功能一体,且触控笔外形可定制,笔尖细腻,手写流畅。
显示面板及其制作方法.pdf
本申请公开了一种显示面板及其制作方法。本申请的显示面板包括基板、发光层、光刻胶层以及第一电极。其中,发光层设置于基板上,光刻胶层设置于发光层远离基板的一侧,第一电极设置于光刻胶层远离基板的一侧。本申请通过保留部分光刻胶层,可以在制作显示面板的过程中,省去剥离光刻胶层的步骤,避免剥离光刻胶层时导致的发光层部分剥离,从而提高显示面板的发光特性。