一种光学级聚合物薄膜及其制备方法和应用.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115850700A(43)申请公布日2023.03.28(21)申请号202211537273.0(22)申请日2022.12.01(71)申请人无锡阿科力科技股份有限公司地址214000江苏省无锡市锡山区东港镇新材料产业园(72)发明人陈琳琳朱萌张文泉(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司11332专利代理师刘二艳(51)Int.Cl.C08G73/10(2006.01)H01L31/048(2014.01)C08F232/08(2006.01)C08J5/18(2006.01)C08L79/08(2006.01)权利要求书2页说明书16页(54)发明名称一种光学级聚合物薄膜及其制备方法和应用(57)摘要本发明提供了一种光学级聚合物薄膜及其制备方法和应用。所述光学级聚合物薄膜的制备原料包括环烯烃共聚物、芳香二酐和芳香二胺；所述环烯烃共聚物具有式I所示结构。本发明中，采用主链为含有六元环结构的环烯烃共聚物作为聚酰亚胺的原料，在聚合物主链上引入六元环的脂环结构，且六元环结构含量多，有利于提高光学级聚合物薄膜的透明度，并且所述光学级聚合物薄膜具有优异的耐热性和力学性能，且加工性能好。CN115850700ACN115850700A权利要求书1/2页1.一种光学级聚合物薄膜，其特征在于，所述光学级聚合物薄膜的制备原料包括环烯烃共聚物、芳香二酐和芳香二胺；所述环烯烃共聚物具有式I所示结构：其中，R1、R2各自独立地选自氢或甲基；n选自0～2的整数；a+b+c＝1，b不等于0。2.根据权利要求1所述的光学级聚合物薄膜，其特征在于，0≤a/(a+b+c)≤0.5；优选地，0.3≤b/(a+b+c)≤0.6；优选地，0≤c/(a+b+c)≤0.5。3.根据权利要求1或2所述的光学级聚合物薄膜，其特征在于，所述环烯烃共聚物采用如下方法进行制备，所述方法包括：将单体A、单体B和单体C进行自由基聚合反应，得到所述环烯烃共聚物；所述单体A包括5‑降冰片烯‑2,3‑二羧酸酐；所述单体B具有式II所示结构：其中，R1、R2各自独立地选自氢或甲基；n选自0～2的整数；所述单体C包括外‑3,6‑环氧‑1,2,3,6‑四氢邻苯二甲酸酐。4.根据权利要求3所述的光学级聚合物薄膜，其特征在于，所述自由基聚合反应的体系中还包括有溶剂、引发剂和链转移剂；优选地，所述溶剂包括环己酮、2‑丁酮、甲基乙基酮、苯或甲苯中的至少一种；优选地，所述反应单体的质量占溶剂质量的10～40％；优选地，所述引发剂占反应体系总质量的0.01～8％，进一步优选为0.1～2％；优选地，所述链转移剂包括2,4‑二苯基‑4‑甲基‑1‑戊烯、十二烷基硫醇、巯基乙醇、巯基乙酸或3‑巯基丙酸异辛酯中的至少一种；优选地，所述链转移剂的质量占反应单体总质量的1～3％。5.根据权利要求4所述的光学级聚合物薄膜，其特征在于，所述自由基聚合反应的具体步骤包括：将单体B、单体C和引发剂与溶剂混合，向其中滴加单体A和链转移剂的混合溶液进行自由基聚合反应，得到所述环烯烃共聚物；优选地，所述单体A和链转移剂的混合溶液的滴加时间为1～30min；2CN115850700A权利要求书2/2页优选地，所述自由基聚合反应在氮气保护下进行；优选地，所述自由基聚合反应的温度为60～80℃；优选地，所述自由基聚合反应的时间为4～5h；优选地，所述自由基聚合反应后还包括沉淀析出、过滤、洗涤和干燥的步骤。6.根据权利要求1～5任一项所述的光学级聚合物薄膜，其特征在于，所述芳香二酐包括均苯四甲酸酐；优选地，所述芳香二胺结构中含有醚键；优选地，所述芳香二胺包括二氨基二苯醚；优选地，所述光学级聚合物薄膜的制备原料中，环烯烃共聚物占反应物总质量的5～50％；优选地，所述光学级聚合物薄膜的制备原料中，酸酐与氨基的摩尔比为1:(1～1.1)。7.一种根据权利要求1～6任一项所述的光学级聚合物薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：(1)将环烯烃共聚物、芳香二酐和芳香二胺进行聚合反应，得到聚酰胺酸；(2)将步骤(1)得到的聚酰胺酸进行酰亚胺化，得到所述光学级聚合物薄膜。8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述聚合反应的体系还包括有机溶剂；优选地，所述有机溶剂包括N‑甲基吡咯烷酮、N,N‑二甲基酰胺、二甲基甲酰胺、二氯甲烷、1,3‑二甲基‑2‑咪唑啉酮、二甲基亚砜或六甲基磷酰三胺中的至少一种；优选地，步骤(1)所述反应物质量占有机溶剂质量的10～20％；优选地，步骤(1)所述聚合反应的体系中还包括乙酸；优选地，所述乙酸的摩尔量为芳香二胺摩尔量的2～3倍；优选地，步骤(1)所述聚合反应的温度为5～15℃；优选地，步骤(1)所述聚合反应的时间为6～12h。9.