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本发明属于材料表面处理技术领域,具体涉及一种难熔金属钨表面纳米化方法。本发明采用机械抛光结合真空热处理的方法,在基体为粗晶的钨表面形成细小的纳米晶层,工艺简单,耗时短耗能低,重复性可靠,可实现批量处理。粗晶钨在金相抛光过程中近表层会引入高密度位错,这些位错是热力学亚稳定状态,在后续的真空热处理过程中发生回复形成稳定的纳米晶,晶粒尺寸200~400nm,表面纳米层的厚度为200~400nm。且纳米晶层与基体组织之间不存在明显的界面,不易剥离和分离,有望进一步高升钨材料的抗辐照性能。