利用薄膜沉积制备纳米柱形结构氧化锡的方法.pdf
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利用薄膜沉积制备纳米柱形结构氧化锡的方法.pdf
本发明涉及一种利用薄膜沉积制备纳米柱形结构氧化锡的方法,属于半导体材料领域,用纯度为99.99%的锡或氧化锡,制成直径1英寸、厚度0.25英寸的靶;用单晶或玻璃作为衬底,衬底超声波清洗后,在清洁溶剂中清洗20分钟,再用去离子水冲洗,最后用氮气干燥;靶和衬底放入到脉冲激光沉积设备的真空腔内;真空腔的初始压力为2×10?6托,溅射过程中设置氧气压力在5毫托~50托,温度在室温~900℃,激光能量为1~10毫焦每平方厘米,靶到衬底距离为10~80厘米。该方法用的激光是清洁的,只对待蒸镀的材料表面施加热量,来自加
一种纳米结构氧化镍薄膜的制备方法.pdf
本发明涉及氧化镍薄膜领域,公开了一种纳米结构氧化镍薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤I:基片清洗;步骤II:基片加热,将基片放置在磁控溅射系统加热炉上,加热温度为400℃;步骤III:向真空室通入工作气体,并对溅射靶施加电压进行放电;步骤IV:沉积,沉积条件为基片温度700~800℃、氧分压0.1‑0.2Pa、放电功率100W、沉积时间3‑120min;步骤V:沉积结束后,基片冷却至室温。本发明制备出的NiO薄膜具有一定的网状纳米结构,可应用于催化和传感等领域,同时该薄膜具有较高的结晶质量,具有较低的缺陷
铽掺杂氧化锡薄膜及其制备方法.pdf
本发明涉及发光材料技术领域,具体涉及铽掺杂氧化锡薄膜及其制备方法,包括以下步骤:步骤一,将锡盐和铽盐溶解于溶剂中,得到溶液A;步骤二,将溶液A旋涂在衬底上制备成膜,并放在加热台上以第一温度加热,获得基于衬底的薄膜;步骤三,将步骤二获得基于衬底的薄膜采用快速热退火设备在第二温度下进行退火处理,获得基于衬底的铽掺杂氧化锡薄膜,其中,所述铽掺杂氧化锡薄膜为光致发光材料,所述第二温度大于所述第一温度。该方法制备工艺简单,对设备要求低,可控程度高,与传统的管式炉热处理工艺相比,该制备方法在制备过程涉及到的热预算少,
一种水热法制备蜂窝状结构的氧化锡纳米晶体薄膜的方法.pdf
一种水热法制备蜂窝状结构的氧化锡纳米晶体薄膜的方法,具体为:先将FTO导电玻璃片表面用去离子水清洗干净放入反应釜中,将配制的浓度为1.0mol/L‑0.01mol/L四氯化锡溶液加入到烧杯中,加入蒸馏水,搅拌,将摩尔数为四氯化锡摩尔数4倍的氢氧化钠溶液滴入装有四氯化锡溶液的烧杯中,形成白色浆料,让浆料的pH值保持为9,继续搅拌0.5‑3小时,将烧杯中浆料倒入装有FTO导电玻璃片的反应釜中,将反应釜放入烘箱中,将烘箱温度升至200℃并保温1‑7天,取出FTO导电玻璃片用蒸馏水清洗3次,再用无水乙醇清洗1次,
制备纳米纤维和纳米八面体双级结构的氧化铟锡的方法.pdf
本发明涉及纳米材料制备技术领域,旨在提供制备纳米纤维和纳米八面体双级结构的氧化铟锡的方法。该方法的具体步骤包括:向铟源和锡源的混合物中加入溶剂N,N-二甲基甲酰胺,获得铟源和锡源的混合溶液,再称取聚乙烯吡咯烷酮加入到混合溶液中,得到均一的纺丝溶液,再通过静电纺丝得到复合纳米纤维;将制得的复合纳米纤维移入程序控温的马弗炉中的陶瓷方舟内,进行高温煅烧,得到纳米纤维和纳米八面体双级结构的氧化铟锡。本发明工艺条件易实现,可以批量生产,制得的纳米纤维和纳米八面体双级结构的氧化铟锡,拥有完善的晶型和均一的形貌,八面体