一种真空烧结炉.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110595202A(43)申请公布日2019.12.20(21)申请号201910868771.5(22)申请日2019.09.16(71)申请人陈美香地址315032浙江省温州市龙湾区温州大道295号107(72)发明人陈美香朱仁康王晟聪(51)Int.Cl.F27B5/04(2006.01)F27B5/18(2006.01)F27B5/06(2006.01)权利要求书2页说明书4页附图3页(54)发明名称一种真空烧结炉(57)摘要本发明涉及陶瓷真空烧结炉技术领域。一种真空烧结炉，包括机架、上部压紧装置、炉体、下部支撑装置、真空装置、液压装置、水冷装置；上部压紧装置、炉体和下部支撑装置设置在机架的前部；上部压紧装置设置在炉体的顶部，上部压紧装置穿过炉体的顶部用于压紧物料；下部支撑装置设置在炉体的底部；下部支撑装置穿过炉体的底部用于支撑物料并与上部压紧装置相配合；真空装置设置在机架的后部，真空装置与炉体相连通；液压装置和水冷装置分别设置在机架的后部下侧；液压装置用于进行液压控制，水冷装置用于进行冷却控制。本专利的优点是提升陶瓷物料在烧结过程中的稳定度，提升抽真空效果防止发生意外爆炸，体提升控温效果，提高烧结效率。CN110595202ACN110595202A权利要求书1/2页1.一种真空烧结炉，其特征在于，包括机架（1）、上部压紧装置（2）、炉体（3）、下部支撑装置（4）、真空装置（5）、液压装置（6）、水冷装置（7）和控制系统；所述的上部压紧装置（2）、炉体（3）和下部支撑装置（4）设置在机架（1）的前部；所述的上部压紧装置（2）设置在炉体（3）的顶部，且上部压紧装置（2）穿过炉体（3）的顶部用于压紧物料；所述的下部支撑装置（4）设置在炉体（3）的底部；且下部支撑装置（4）穿过炉体（3）的底部用于支撑物料并与上部压紧装置（2）相配合；所述的真空装置（5）设置在机架（1）的后部，且真空装置（5）与炉体（3）相连通；所述的液压装置（6）和水冷装置（7）分别设置在机架的后部下侧；液压装置（6）用于进行液压控制，水冷装置（7）用于进行冷却控制；所述的控制系统分别控制上部压紧装置（2）、炉体（3）、下部支撑装置（4）、真空装置（5）、液压装置（6）和水冷装置（7）动作。2.根据权利要求1所述的一种真空烧结炉，其特征在于，所述的上部压紧装置（2）包括油缸（21）、红外探测器（22）、上压管（23）和连接波浪管（24）；所述的油缸（21）通过油缸固定板（210）设置在机架（1）的上部，油缸的右侧设上部和下部分别设置有进液管（211）和出液管（212）；油缸（21）的上端与红外探测器（22）连接；油缸（21）的下端连接有上部绝缘管（25）；所述的上压管（23）的顶部与连接上部绝缘管（25）下部连接；所述的上压管（23）中部设置有上压杆（231）；所述的上压杆（231）与上部绝缘管（25）的中部固定连接；所述的连接波浪管（24）的顶部与上压管（23）的底部连接；连接波浪管（24）的底部与炉体（3）的顶部连接，上压杆（231）依次穿过上压管（23）、连接波浪管（24）和炉体（3）的顶部连接有上压块（26）；所述的上压块（26）底部连接有上压头（27）。3.根据权利要求1所述的一种真空烧结炉，其特征在于，所述的下部支撑装置（4）包括压力传感器（41）、支撑管（42）；所述的压力传感器（41）设置在机架（1）的下部；压力传感器（41）的顶部连接有下部绝缘管（43）；所述的下部绝缘管（43）的顶部与支撑管（42）的底部连接；所述的支撑管（42）的上部与炉体（3）的底部通过法兰（420）固定连接；支撑管（42）内设置有支撑杆（421），所述的支撑杆（421）的底部与下部绝缘管（43）的中部连接；支撑杆（421）的顶部依次穿过支撑管（42）、法兰（420）和炉体（3）的底部连接有支撑块（422）；所述的支撑块（422）的顶部设置有支撑头（423）；所述的支撑头（423）与上压头（27）的中心线处于同一直线并且相配合夹紧。4.根据权利要求1所述的一种真空烧结炉，其特征在于，所述的炉体（3）的顶部后侧设置有真空接口（30）；炉体（3）的底部后侧设置有备用真空接口（31）；炉体（3）的前部设置炉体门（32），所述的炉体门（32）内设置有多块规则排列的保温板。5.根据权利要求1所述的一种真空烧结炉，其特征在于，所述的真空装置（5）包括真空泵（51）、真空过滤器（52）、电磁挡板阀（53）和真空连接管（54）；所述的真空泵（51）设置在机架（1）上，所述的真空过滤器（52）连接在真空泵（51）上方，所述的电磁挡板阀（53）与真空过滤器（52）连接；所述的真空连接管（54）一端与电磁挡