一种硅片清洗工艺.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108493138A(43)申请公布日2018.09.04(21)申请号201810413900.7(22)申请日2018.05.03(71)申请人浙江海顺新能源有限公司地址325000浙江省温州市经济技术开发区滨海十二路500号(72)发明人季丽王松华聂海洲余志兵(74)专利代理机构上海翼胜专利商标事务所(普通合伙)31218代理人翟羽(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)权利要求书2页说明书4页附图3页(54)发明名称一种硅片清洗工艺(57)摘要本发明公开了一种硅片清洗工艺，包括壳体，所述壳体内腔顶部的中端固定连接有紫外线灯管，且壳体内腔的底部固定连接有加热丝，所述壳体内腔的左下端固定连接有支撑板，且支撑板的顶端固定连接有套筒，所述套筒内腔的底部通过弹簧活动连接有刮杆，且刮杆的顶端固定连接有橡胶板，所述壳体内表面的中端活动安装有调节轮，壳体左侧的下端固定连接有第一支撑架，且第一支撑架内表面的左端活动安装有从动轮。本发明通过本工艺清洗的硅片，其具有清洗效果好、清洗速率快，且具有连续工业化清洗的优点，同时通过烘干装置，可有效对清洗完成后的硅片进行高效节能烘干处理，符合国家节能减排需求以及企业自身的利益。CN108493138ACN108493138A权利要求书1/2页1.一种硅片清洗工艺，包括壳体（1），其特征在于：所述壳体（1）内腔顶部的中端固定连接有紫外线灯管（14），且壳体（1）内腔的底部固定连接有加热丝（3），所述壳体（1）内腔的左下端固定连接有支撑板（6），且支撑板（6）的顶端固定连接有套筒（7），所述套筒（7）内腔的底部通过弹簧（5）活动连接有刮杆（4），且刮杆（4）的顶端固定连接有橡胶板（16），所述壳体（1）内表面的中端活动安装有调节轮（15），壳体（1）左侧的下端固定连接有第一支撑架（20），且第一支撑架（20）内表面的左端活动安装有从动轮（21），所述壳体（1）右侧的下端固定连接有第二支撑架（12），且第二支撑架（12）内表面的右端活动安装有主动轮（11），所述主动轮（11）通过传送带（8）与从动轮（21）传动连接，传送带（8）的外表面固定连接有海绵层（23），且传送带（8）与壳体（1）的连接处分别开设有进料口（2）和出料口（13），所述壳体（1）顶部的右端固定安装有电机（22），且电机（22）的输出轴通过皮带与主动轮（11）传动连接，所述壳体（1）顶部的左端固定安装有循环风机（17），且循环风机（17）的进风端通过进风管（18）与壳体（1）顶部的左端连通，循环风机（17）的出风端通过出风管（10）与壳体（1）右侧的底部连通。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗工艺，其特征在于：所述壳体（1）左侧的底部以及套筒（7）左侧的底部均开设有排水口（24）。3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗工艺，其特征在于：所述壳体（1）底部的四周均固定连接有支撑腿（9），且支撑腿（9）的底部固定连接有防滑垫。4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗工艺，其特征在于：所述壳体（1）左侧的上端固定连接有控制器（19），且控制器（19）的外表面从后向前依次固定连接有紫外线灯管开关（191）、循环风机开关（192）、电机开关（193）和温度调节旋钮（194）。5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗工艺，其特征在于：其清洗工艺包括以下步骤：A、上料（浸泡）；B、超声清洗；C、超声碱洗；D、超声漂洗；E、酸洗；F、超声漂洗；G、慢拉脱水；H、烘干；I、下料。6.根据权利要求5所述的一种硅片清洗工艺，其特征在于：所述上料（浸泡）、超声清洗和超声漂洗过程中所使用的化学试剂均为缓冲试剂、聚乙二醇和盐的混合液，且缓冲试剂、聚乙二醇和盐的体积比为1：3：100～1：7：200。7.根据权利要求6所述的一种硅片清洗工艺，其特征在于：所述缓冲试剂由脱硫石膏、磷酸盐、氯化钠、氯化钾、发酵有机物、柠檬酸、硫酸氢钙、磷酸二氢铵和石灰石组成，其配料百分比为：脱硫石膏40％～55％；磷酸盐2％～5％；氯化钠1％～4％；氯化钾2％～5％；发酵有机物10％～15％；柠檬酸5％～10％；硫酸氢钙7％～12％；磷酸二氢铵20％～40％；石灰石15％～22％。8.根据权利要求6所述的一种硅片清洗工艺，其特征在于：所述盐为由氯化钾、磷酸钙、2CN108493138A权利要求书2/2页谷氨酸钠、甘草苷钠、苹果酸、鸟苷酸钠、磷酸二氢钾、硫酸亚铁和碳酸钾组成，其配料百分比为：氯化钾70％～80％；磷酸钙1％～3％；谷氨酸钠2％～4％；甘草苷钠5％～8％；苹果酸0.7％～1.5％；鸟苷酸钠0.3％～1％；磷酸二氢钾7％～10％；硫酸亚铁8％～12％；碳酸钾3％～7％。3CN108493138