非线性光学器件的制造方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115968450A(43)申请公布日2023.04.14(21)申请号202180048924.7山田俊树横滨秀雄上田里永子(22)申请日2021.07.14(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理(30)优先权数据有限公司111122020-1303712020.07.31JP专利代理师何立波张天舒(85)PCT国际申请进入国家阶段日(51)Int.Cl.2023.01.09G02B6/13(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2021/0264672021.07.14(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/024761JA2022.02.03(71)申请人国立研究开发法人情报通信研究机构地址日本东京申请人住友电气工业株式会社(72)发明人田泽英久村上泰典大友明权利要求书2页说明书15页附图11页(54)发明名称非线性光学器件的制造方法(57)摘要提供一种非线性光学器件的制造方法。在半导体基板(100)的表面形成凹部(10)。在减压环境下，在凹部(10)填充第1液体材料(31)。第2液体材料(32)与填充至凹部(10)的第1液体材料(31)接触，由此对第3液体材料(33)进行调制。第3液体材料(33)硬化，由此形成埋入部(310)。第1液体材料(31)包含第1溶质和第1溶剂，或者仅由该第1溶剂构成。第2液体材料(32)包含第2溶质和第2溶剂。第2溶质包含非线性光学聚合物。该第2液体材料(32)的该第2溶质的浓度高于该第1液体材料(31)的该第1溶质的浓度。CN115968450ACN115968450A权利要求书1/2页1.一种非线性光学器件的制造方法，其包含下述工序：在半导体基板的表面形成凹部；在减压环境下，在所述凹部填充第1液体材料；使第2液体材料与填充至所述凹部的所述第1液体材料接触，由此对第3液体材料进行调制；以及使所述第3液体材料硬化，由此形成埋入部，所述第1液体材料包含第1溶质和第1溶剂，或者仅由所述第1溶剂构成，所述第2液体材料包含第2溶质和第2溶剂，所述第2溶质包含非线性光学聚合物，所述第2液体材料的所述第2溶质的浓度，高于所述第1液体材料的所述第1溶质的浓度。2.根据权利要求1所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述第1溶质包含非线性光学聚合物。3.根据权利要求1或2所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述凹部的至少一部分形成为沿所述半导体基板的所述表面而线状地延伸。4.根据权利要求1至3中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述凹部的深度相对于所述凹部的宽度之比为0.5至12。5.根据权利要求1至4中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述凹部具有170nm以下的宽度。6.根据权利要求1至5中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述第1液体材料的所述第1溶质的浓度为0质量％至35质量％，所述第2液体材料的所述第2溶质的浓度为5质量％至40质量％。7.根据权利要求1至6中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述非线性光学聚合物包含通过下述式(I)：[化1]表示的结构，在上述式(I)，R1及R2各自独立地表示氢原子、烷基、烯基、环烷基、环烯基、烷氧基、卤代烷基、芳基、羟基、硫醇基或者氨基。8.根据权利要求1至7中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述第1溶剂及所述第2溶剂各自包含从由丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、环庚酮、乙酰丙酮、甲基戊基酮、n－甲基酮、γ－丁内酯、四氢呋喃、氯仿、二溴甲烷、1,2－二氯乙烷、1,2－二溴乙烷、1,1,2－三氯乙烷、1,1,2,2－四氯乙烷、1,1,2－三溴乙烷、1,1,2,2－四溴乙烷、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、丙二醇甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯及乙基溶纤剂醋酸酯构成的组选择的至少1种。2CN115968450A权利要求书2/2页9.根据权利要求1至8中任一项所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述第2溶剂是与所述第1溶剂相同的材料，所述第2溶质是与所述第1溶质相同的材料。10.根据权利要求1所述的非线性光学器件的制造方法，其中，所述第1溶质包含非线性光学聚合物，所述凹部的至少一部分形成为沿所述半导体基板的所述表面而线状地延伸，在减压气氛下，在所述凹部填充所述第1液体材料，所述凹部的深度相对于所述凹部的宽度之比为0.5至12，所述凹部具有170nm以下的宽度，所述第1液体材料的所述第1溶质的浓度为0质量％至35质量％，所述第2液体材料的所述第2溶质的浓度为5质量％至40质量％。3CN115968450A说明书1/15页非线性光学器件的制造方法技术领域[0001]本发明涉及非线性光学器件的制造方法。本申请基于20