包含具有含硼官能团的改性聚合物的聚合物组合物及其制造方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115989246A(43)申请公布日2023.04.18(21)申请号202180052624.6(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公(22)申请日2021.07.21司72001专利代理师马倩林毅斌(30)优先权数据2020-1458812020.08.31JP(51)Int.Cl.C08F8/42(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2023.02.24(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2021/0273202021.07.21(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/044633JA2022.03.03(71)申请人株式会社可乐丽地址日本冈山县仓敷市酒津１６２１番地(72)发明人稻富敦唐木田拓朗福原忠仁太田里美权利要求书2页说明书19页(54)发明名称示有机基团。)。包含具有含硼官能团的改性聚合物的聚合物组合物及其制造方法(57)摘要提供以高收率得到对于极性材料的改性、无机材料的分散等各种材料的改性而言适合的具有含硼官能团的聚合物的制造方法；以及兼具对于各种极性官能团而言的高反应性和优异保存稳定性的包含具有含硼官能团的改性聚合物的聚合物组合物。包含具有含硼官能团的改性聚合物的聚合物组合物的制造方法，其包括：工序(1)，通过在能够进行阴离子聚合的活性金属或活性金属化合物的存在下，将选自共轭二烯和芳香族乙烯基化合物中的至少一种单体进行阴离子聚合，从而制造活性末端聚合物(Z)；以及工序(2)，使工序(1)中得到的活性末端聚合物(Z)与硼酸化合物发生反应的工序(2)，所述硼酸化合物具有至少两个以上的下述式(I)所示的部分结构，且与该部分结构中包含的氧原子键合的至少1个R的Taft立体参数Es值为‑0.30以下。B‑O‑RCN115989246A(I)。(式(I)中，B表示硼原子，O表示氧原子，R表CN115989246A权利要求书1/2页1.包含具有含硼官能团的改性聚合物的聚合物组合物的制造方法，其包括：工序(1)，通过在能够进行阴离子聚合的活性金属或活性金属化合物的存在下，将选自共轭二烯和芳香族乙烯基化合物中的至少一种单体进行阴离子聚合，从而制造活性末端聚合物(Z)；以及工序(2)，使工序(1)中得到的活性末端聚合物(Z)与硼酸化合物发生反应，所述硼酸化合物具有至少两个以上的下述式(I)所示的部分结构，且与该部分结构中包含的氧原子键合的至少1个R的Taft立体参数Es值为‑0.30以下，B‑O‑R(I)式(I)中，B表示硼原子，O表示氧原子，R表示有机基团。2.根据权利要求1所述的聚合物组合物的制造方法，其中，在工序(2)中，对于所述硼酸化合物混合极性化合物后，添加至活性末端聚合物(Z)并使其反应。3.聚合物组合物，其包含：选自下述式(II)所示的包含硼酸基的改性聚合物、下述式(III)所示的包含硼酸酯基的改性聚合物和下述式(IV)所示的包含硼酸盐的改性聚合物中的至少1种硼酸系改性聚合物(A)55～99质量％；以及选自下述式(V)或(VI)所示的包含二取代硼酸基的改性聚合物、下述式(VII)或(VIII)所示的包含二取代硼酸酯基的改性聚合物和下述式(IX)或(X)所示的包含二取代硼酸盐的改性聚合物中的至少1种二取代硼酸系改性聚合物(B)1～45质量％，[化1]上述式中，P1、P2和P3表示包含选自共轭二烯单元和芳香族乙烯基化合物单元中的至少1种单体单元的聚合物链；R1和R2各自独立地表示氢原子或碳原子数1～12的烷基，R1和R2之中的至少一者为碳原子数1～12的烷基，或者，R1与R2键合而形成碳原子数2～24的亚烷基链；R3、R4和R5各自独立地表示氢原子、碳原子数1～12的烷基、或者包含选自共轭二烯单元和芳香族乙烯基化合物单元中的至少1种单体单元的聚合物链，R3、R4和R5之中的至少一者为碳原子数1～12的烷基、或者包含选自共轭二烯单元和芳香族乙烯基化合物单元中的至少1种单体单元的聚合物链，或者，R3与R4、R3与R5、或者R4与R5任选键合而形成碳原子数2～24的亚烷基链，R3、R4和R5任选键合而形成碳原子数3～36的3价的饱和烃链；M表示1个碱金属或1/2个碱土金属，[化2]2CN115989246A权利要求书2/2页上述式中，P4、P5、P6、P7、P8、P9、P10、P11和P12表示包含选自共轭二烯单元和芳香族乙烯基化合物单元中的至少1种单体单元的聚合物链；R6、R7、R8、R9各自独立地表示碳原子数1～12的烷基；R10和R11各自独立地为氢原子或碳原子数1～12的烷基，R10和R11之中的至少一者为碳原子数1～12的烷基，或者，R10与R11键合而形成碳原子数2～24的亚烷基链；R12表示碳原子数1～12