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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115990719A(43)申请公布日2023.04.21(21)申请号202111208031.2(22)申请日2021.10.18(71)申请人雷杰科技股份有限公司地址中国台湾新竹市水利路81号6F-6(72)发明人陈鸿隆(74)专利代理机构上海弼兴律师事务所31283专利代理师薛琦徐婕超(51)Int.Cl.B23K26/70(2014.01)B23K26/36(2014.01)H01L33/48(2010.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称晶粒去除装置及晶粒去除方法(57)摘要本发明公开了一种晶粒去除装置,适于去除载板上预定去除的至少一晶粒。此晶粒去除装置包括载台、光源、光罩以及移动机构。载台适于承载载板。光源适于提供光束。光罩配置于载台与光源之间,光罩具有多个图案单元,每一个图案单元具有至少一个透光图案,每一个透光图案对应于一个晶粒,且图案单元的透光图案的排列方式不同。移动机构连接光罩,并适于移动光罩使光束通过一个图案单元而照射于预定去除的至少一个晶粒。本发明另提出一种晶粒去除方法。CN115990719ACN115990719A权利要求书1/1页1.一种晶粒去除装置,适于去除一载板上预定去除的至少一晶粒,其特征在于,该晶粒去除装置包括:一载台,适于承载该载板;一光源,适于提供一光束;一光罩,配置于该载台与该光源之间,其中该光罩具有多个图案单元,每一该些图案单元具有至少一透光图案,每一该至少一透光图案对应于该些晶粒其中之一,且该些图案单元的该至少一透光图案的排列方式不同;以及一移动机构,连接该光罩,并适于移动该光罩使该光束通过该些图案单元其中之一而照射于预定去除的该至少一晶粒。2.如权利要求1所述的晶粒去除装置,其特征在于,所述晶粒去除装置更包括一镜头,配置于该光罩与该载台之间,并位于该光束的传递路径上。3.如权利要求1所述的晶粒去除装置,其特征在于,每一该些图案单元的该至少一透光图案排列成M×N阵列,其中M与N为正整数,且任一该些图案单元的M、N的数值至少有一个不同于与另一该些图案单元的M、N的数值。4.如权利要求3所述的晶粒去除装置,其特征在于,该些图案单元的M、N的数值皆为奇数。5.如权利要求3所述的晶粒去除装置,其特征在于,该些图案单元的M、N的数值选自1×1、1×3、3×1、1×5、5×1、1×7、7×1、3×3、3×5、5×3、3×7、7×3、5×7、7×5以及7×7。6.如权利要求1所述的晶粒去除装置,其特征在于,每一该些图案单元的该至少一透光图案整合成一个透光区。7.如权利要求1所述的晶粒去除装置,其特征在于,每一该至少一透光图案与每一该些晶粒在同一方向上的宽度值分别为D1与D2,其中D1小于或等于D2。8.如权利要求7所述的晶粒去除装置,其特征在于,D1:D2为0.5:1。9.如权利要求1所述的晶粒去除装置,其特征在于,该载台为移动式载台。10.一种晶粒去除方法,适用于一晶粒去除装置,其特征在于,该晶粒去除装置适于去除一载板上预定去除的至少一晶粒,该晶粒去除装置包括一载台、一光源、一光罩以及一移动机构,该光罩配置于该载台与该光源之间,其中该光罩具有多个图案单元,每一该些图案单元具有至少一透光图案,每一该至少一透光图案对应于该些晶粒其中之一,且该些图案单元的该至少一透光图案的排列方式不同,该移动机构连接该光罩并适于移动该光罩,该晶粒去除方法包括:将该载板置于该载台上;根据该载板上预定去除的该至少一晶粒的分布情形从该些图案单元中选择一个合适的该图案单元;借由该移动机构移动该光罩,使所选择的该图案单元与该光源对位;以及使该光源提供一光束通过所选择的该图案单元而照射于预定去除的该至少一晶粒。2CN115990719A说明书1/4页晶粒去除装置及晶粒去除方法技术领域[0001]本发明涉及一种去除装置及方法,尤其涉及一种晶粒去除装置以及晶粒去除方法。背景技术[0002]微发光二极管显示器(MicroLEDDisplay)为近年来新兴的显示技术,此技术是将发光二极管(LED)进行薄膜化、微小化以及阵列化,并将发光二极管的尺寸缩小至微米等级。目前微发光二极管显示器的制程中,巨量转移(MassTransfer)为关键步骤之一,主要是将晶圆上的微发光二极管晶粒(以下称为晶粒)转移至驱动载板上。为了确保转移至驱动载板上的晶粒皆为良品,在进行巨量转移之前,经常会借由晶粒去除装置将晶圆上不良的晶粒去除。[0003]现有的晶粒去除装置是以激光光束经由光罩照射于不良的晶粒上而加以去除。光罩的图案为固定,每次去除晶粒的数量为一个,需要经过多次的去除步骤才能将晶圆上的不良晶粒完全去除,进而导致去除效率不佳的情形。此外,有时因为制程瑕疵使得少数晶粒偏移