空间光调制器和包括空间光调制器的LIDAR装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115993732A(43)申请公布日2023.04.21(21)申请号202210490026.3(22)申请日2022.05.06(30)优先权数据10-2021-01389892021.10.19KR(71)申请人三星电子株式会社地址韩国京畿道(72)发明人金善日朴晶铉李旻璟郑秉吉(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021专利代理师吴晓兵李敬文(51)Int.Cl.G02F1/035(2006.01)G01S17/48(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图14页(54)发明名称空间光调制器和包括空间光调制器的LIDAR装置(57)摘要提供了一种空间光调制器和包括该空间光调制器的光检测和测距(LiDAR)装置。空间光调制器包括：第一反射层；第二反射层，包括彼此间隔开的多个光栅结构；谐振层，设置在第一反射层和第二反射层之间；以及填充层，具有约100mW/mK或更小的传热系数并且与谐振层的上表面接触，同时围绕多个光栅结构中的至少一个光栅结构。CN115993732ACN115993732A权利要求书1/2页1.一种空间光调制器，包括：第一反射层；第二反射层，包括彼此间隔开的多个光栅结构；谐振层，设置在所述第一反射层和所述第二反射层之间；以及填充层，具有约100mW/mK或更小的传热系数，所述填充层与所述谐振层的上表面接触，并且围绕所述多个光栅结构中的至少一个光栅结构。2.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述填充层包括真空层。3.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述填充层包括填充有流体的层。4.根据权利要求3所述的空间光调制器，其中，所述流体包括气体。5.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述填充层与所述多个光栅结构中的所述至少一个光栅结构的上表面和侧表面均接触。6.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述多个光栅结构包括：第一组光栅结构，被施加第一电信号；以及第二组光栅结构，被施加第二电信号，以及其中，所述填充层围绕所述第一组光栅结构或所述第二组光栅结构中的至少一个。7.根据权利要求6所述的空间光调制器，其中，所述填充层与所述谐振层的上表面的位于所述第一组光栅结构和所述第二组光栅结构之间的部分接触。8.根据权利要求6所述的空间光调制器，还包括介电层，所述介电层设置在所述第一组光栅结构的相邻光栅结构之间并且具有超过约1000mW/mK的传热系数。9.根据权利要求8所述的空间光调制器，其中，所述介电层包括氧化硅或氮化硅中的至少一种。10.根据权利要求1所述的空间光调制器，还包括覆盖层，所述覆盖层设置在所述填充层上并且在所述第一反射层、所述谐振层和所述第二反射层的堆叠方向上与所述第二反射层间隔开。11.根据权利要求10所述的空间光调制器，还包括具有两个相对端的间隔层，其中，所述两个相对端包括与所述谐振层接触的第一端和与所述覆盖层接触的第二端。12.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述多个光栅结构中的至少一个光栅结构是以下任何一种结构：在p型半导体层和n型半导体层之间设置本征半导体层的PIN结构，在两个n型半导体层之间设置本征半导体层的NIN结构，以及在两个p型半导体层之间设置本征半导体层的PIP结构。13.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述多个光栅结构中的每一个光栅结构的间距小于由所述空间光调制器调制的光的波长。14.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述第二反射层的反射率小于所述第一反射层的反射率。15.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述第一反射层包括分布式布拉格反射层。16.根据权利要求1所述的空间光调制器，还包括设置在所述谐振层和所述填充层之间的蚀刻停止层。2CN115993732A权利要求书2/2页17.根据权利要求1所述的空间光调制器，其中，所述空间光调制器的边模抑制比SMSR为约5dB或更大。18.一种光检测和测距LiDAR装置，包括：光源，被配置为发射光；空间光调制器，被配置为控制从所述光源发射的光的行进方向以使光行进到物体；以及光电检测器，被配置为检测从所述物体反射的光，其中，所述空间光调制器包括：第一反射层；第二反射层，包括彼此间隔开的多个光栅结构；谐振层，设置在所述第一反射层和所述第二反射层之间；以及填充层，具有约100mW/mK或更小的传热系数，所述填充层与所述谐振层的上表面接触并且覆盖所述多个光栅结构中的至少一个光栅结构。19.根据权利要求18所述的LiDAR装置，其中，所述填充层包括不具有流体的真空层，或填充有流体的流体层。20.根据权利要求19所述的LiDAR装置，其中，所述流体包括气体。21.根据权利要求18所述的LiDAR装置，还包括：覆盖层，设置在所述