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本发明涉及一种空间光调制器,所述空间光调制器包括:?热光介质层,其中,热光介质对于可见光或近红外光的至少一个光谱分量是至少部分透明的并且在20℃的温度具有在0.01WK?1m?1和30WK?1m?1之间的热导率,所述层的厚度至多为100μm;?至少一个与所述热光介质层热接触的加热微源,其中,每个加热微源具有至少一个小于10μm的尺寸;?至少一个与所述热光介质热接触的基板,所述基板具有为所述热光介质的热光系数的至少十分之一的热光系数和至少1WK?1m?1的热导率,而所述基板的热导率高于所述热光介质的热导率。(一个或多个)加热微源可以是光热元件或电热元件。本发明还提供了一种成像系统、以及使用本发明的空间光调制器调制光和干涉成像的方法。