光照射装置和利用光照射装置的光掩模描绘装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN116009366A(43)申请公布日2023.04.25(21)申请号202310140114.5(22)申请日2023.02.21(30)优先权数据2022-0450412022.03.22JP(71)申请人凤凰电机公司地址日本国兵库县(72)发明人山下健一(74)专利代理机构北京汇思诚业知识产权代理有限公司11444专利代理师张黎龚敏(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)G03F7/26(2006.01)H01L25/075(2006.01)H01L33/58(2010.01)权利要求书1页说明书6页附图4页(54)发明名称光照射装置和利用光照射装置的光掩模描绘装置(57)摘要本发明提供一种光照射装置，在不使用积分器透镜的前提下能实现照射面上的高照度和均匀性。利用多个LED(12)、与各LED(12)对应且将来自各LED(12)的光(L)平行化的多个准直透镜(14)、将来自各准直透镜(14)的光(L)朝照射面(A)会聚的聚光透镜(16)、以及调整准直透镜(14)相对于LED(12)的位置的位置调整机构(18)来构成光照射装置(10)。而且，在各LED(12)形成具有几何形状的外形的发光部(22)，将一部分的LED(12)的配置角度设为与剩余部分当中的至少一部分的LED(12)的配置角度相比旋转了与该几何形状对应的角度后的状态。CN116009366ACN116009366A权利要求书1/1页1.一种光照射装置，具备：多个LED；多个准直透镜，与各所述LED对应，将来自各所述LED的光平行化；聚光透镜，将来自各所述准直透镜的光朝照射面会聚；以及位置调整机构，调整所述准直透镜相对于所述LED的位置，各所述LED包含具有几何形状的外形的发光部，一部分所述LED的配置角度与剩余部分当中的至少一部分所述LED的配置角度相比，呈旋转了与所述几何形状对应的角度后的状态。2.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，各所述LED分布于多个模块进行配置，配置于1个所述模块的所述LED全部呈相同的所述配置角度，在配置于不同的所述模块的所述LED中，所述配置角度呈旋转后的状态。3.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，各所述LED分布于多个模块进行配置，在配置于1个所述模块的所述LED中，所述配置角度呈旋转后的状态。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光照射装置，其中，所述几何形状为长方形，所述配置角度为90°。5.根据权利要求1至3中任一项所述的光照射装置，其中，所述位置调整机构调整所述LED与所述准直透镜之间的距离。6.根据权利要求1至3中任一项所述的光照射装置，其中，所述位置调整机构调整所述准直透镜在与所述LED的光轴正交的平面上的位置。7.一种光掩模描绘装置，具备权利要求1至3中任一项所述的光照射装置。2CN116009366A说明书1/6页光照射装置和利用光照射装置的光掩模描绘装置技术领域[0001]本发明涉及例如在半导体曝光用的光掩模的制造(描绘)中所使用的光照射装置以及利用光照射装置的光掩模描绘装置。背景技术[0002]从以往，在制造集成密度高的半导体时，开发了使用作为电路图案的原版的光掩模来进行步进器曝光的方法。[0003]在制造(描绘)该光掩模时，从以往起使用了电子束、激光，而以光掩模制造(描绘)用的光照射装置的降本为目的，探讨了使用LED(发光二极管)。[0004]例如，若是半导体曝光装置用的光源，则开发了众多使用LED的光源(专利文献1)，但难以将这样的光源直接适用于光掩模描绘装置。现有技术文献专利文献[0005]专利文献1：日本特开2020‑86393号公报发明内容(发明要解决的课题)[0006]这是由于，用于光掩模描绘装置的光照射装置要求照射面上的高照度和均匀性。[0007]一般而言，使用LED的光照射装置1如图7所示，具有多个LED2、使从该LED2放射的光成为平行光的准直透镜3、将来自准直透镜3的光朝给定的照射面会聚的聚光透镜4、以及来自各LED2的光叠加于照射面的积分器透镜5。[0008]若想要尽量提高照射面上的照度，则需要将准直透镜3以及聚光透镜4分别尽可能地接近焦点位置地进行配置。如此，配置于LED2的发光部内的电极、附着于LED2的异物等保持原状地被投影至照射面，会在照射面形成暗部，因此存在发生了该照射面上的照度的不均这样的问题。为了消除这样的不均，使用了积分器透镜5。[0009]然而，可以知晓，若使用积分器透镜5，则会发生别的问题。即，若使用积分器透镜5，则会发生透镜的制作精度的问题、在将2片透镜进行组合的情况下透镜位置偏离所导致的光损失。另外，在构成积分器透镜5的各透镜之间的接缝处也会发生光损失。进而，积分器透镜5的制作原本