一种多功能的半导体晶圆湿法清洗治具.pdf
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一种多功能的半导体晶圆湿法清洗治具.pdf
本发明提供一种多功能的半导体晶圆湿法清洗治具,包括安装箱壳,第一电机,第一螺纹杆,升降盘,吸附固定座结构,限制环,放置座,电动滑台,活动调控盒结构,支撑杆,支撑台,升降电缸,调节托架结构,控制器和驱动开关,所述的安装箱壳内部的下方中间部位螺栓安装有第一电机;所述的第一螺纹杆一端与第一电机的输出轴联轴器连接,另一端通过轴承安装在安装箱壳内部上方的中间部位;所述的升降盘螺纹连接在第一螺纹杆的外壁上。本发明的有益效果为:通过吸附固定座结构的设置,能够配合安装箱壳更加紧固的固定安装在指定的位置处进行使用。
一种半导体晶圆晶清洗装置.pdf
本发明公开了一种半导体晶圆晶清洗装置,包括支撑机构、伸缩固定机构、滑动配合机构、侧边固定机构,所述支撑机构内侧设置有所述滑动配合机构,所述滑动配合机构两侧设置有所述侧边固定机构,所述侧边固定机构内侧连接有清洗篮机构,所述滑动配合机构前端安装有所述伸缩固定机构。本发明利用滑动配合机构和清洗篮机构配合,能够快速配合连接配合阀和配合接头,从而利用清洗篮机构对半导体晶圆进行清洗,利用侧边固定机构配合清洗篮机构,从而在对清洗篮机构进行放置时保证稳定性,而后利用滑动配合机构与清洗篮机构连接时提供横向支撑力。
一种湿法工艺的晶圆清洗平台.pdf
本发明公开了一种用于湿法工艺的晶圆清洗平台,包括:承载平台,若干夹持组件,若干夹持组件均安装于承载平台上,若干夹持组件共同用于夹持晶圆片;第一吹气管路,第一吹气管路设置于承载平台内,第一吹气管路贯穿承载平台的上表面并形成有若干第一吹气孔,每一第一吹气孔的轴线均朝向一夹持组件与晶圆片相接触的位置设置。通过对本发明的应用,提供了一种适用于湿法工艺的晶圆清洗平台,且通过对夹持组件特殊的尖锐凸起设计,极大减少了清洗液在夹持组件与晶圆片之间的结晶堆积,同时配合第一吹气管路实现了对清洗液在夹持组件与晶圆片接触位置处的
一种晶圆夹取治具.pdf
本实用新型涉及半导体技术领域,具体公开了一种晶圆夹取治具。晶圆夹取治具包括下夹头和上夹头,下夹头的支撑面积大于等于晶圆面积的一半,且下夹头的一边缘设有与晶圆匹配的弧形阻挡件;上夹头设置于下夹头的上方,上夹头的一侧与下夹头设有阻挡件的一侧弹性连接,上夹头为与晶圆匹配的弧形件,且上夹头的外侧弧形面与阻挡件的内侧弧形面对齐。下夹头可以充分拖住晶圆,弧形阻挡件能阻挡晶圆,对晶圆起到了限位的作用,上夹头的外侧弧形面与阻挡件的内侧弧形面对齐,上夹头和下夹头配合夹取晶圆,增加了晶圆夹取治具夹取晶圆的面积,晶圆被夹取后在
一种半导体晶圆高效清洗工艺.pdf
本发明涉及一种半导体晶圆高效清洗工艺,先将待清洗的半导体晶圆码放在等离子清洗的清洗室内,对清洗室进行抽真空直至清洗室内的真空度达到设定值,然后充入工作气并将清洗室内的真空度保持在设定值;开启高频电源,对清洗室内的气体进行电离,对在清洗室内的半导体晶圆进行清洗;清洗完成后,关闭高频电源,向清洗室内充入保护气直至清洗室内的内气压达到常压后,将清洗完成后的半导体晶圆从清洗室内取出。所述半导体晶圆高效清洗工艺能够对光刻胶残污有效去除,去除效果好,去污速率高,去污的均匀性能得到保证。