无内支撑的软土基坑支护方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109137933A(43)申请公布日2019.01.04(21)申请号201811145735.8(22)申请日2018.09.29(71)申请人浙江理工大学地址310018浙江省杭州市下沙高教园区2号大街5号(72)发明人马海龙马宇飞(74)专利代理机构杭州中成专利事务所有限公司33212代理人金祺(51)Int.Cl.E02D17/04(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图2页(54)发明名称无内支撑的软土基坑支护方法(57)摘要本发明提出一种无内支撑的软土基坑支护方法，包括以下步骤：S1、设置竖向体Ⅰ与竖向体Ⅱ；S2、设置支墩；S3、设置斜撑件组件，斜撑件组件由至少两个沿基坑长度方向依次设置的斜撑件构成；斜撑件的顶端与竖向体Ⅱ的顶端在地面相接，斜撑件的底端与竖向体Ⅰ相接，且斜撑件的底端位于基坑开挖面的下方；S4、设置斜拉件组件，斜拉件组件由与步骤S3中斜撑件一一对应的斜拉件构成；斜拉件的顶端与竖向体Ⅰ的顶端相接，斜拉件与竖向体Ⅱ相交，相交点为A；相交点A位于基坑开挖面下方；斜撑件与斜拉件相交于B点；S5、设置水平件组件：从地面向下开挖深度为H的基坑，在开挖的同时，从距离地面a4深度处，从上至下依次设置n层水平件组件。CN109137933ACN109137933A权利要求书1/2页1.无内支撑的软土基坑支护方法，其特征是包括以下步骤：S1、设置竖向体Ⅰ(1)与竖向体Ⅱ(2)：在拟开挖侧设置竖向体Ⅰ(1)，竖向体Ⅰ(1)的长度为L1，在基坑外侧设置竖向体Ⅱ(2)，竖向体Ⅱ(2)的长度为L2；所述竖向体Ⅰ(1)与竖向体Ⅱ(2)顶端均与地面(9)平齐，且L2小于等于L1S2、设置支墩(5)；所述支墩(5)位于竖向体Ⅰ(1)一侧，其顶部与基坑开挖面(8)平；所述支墩(5)沿基坑长度方向连续设置；S3、设置斜撑件组件：所述斜撑件组件由至少两个沿基坑长度方向依次设置的斜撑件(3)构成；所述斜撑件(3)的顶端与竖向体Ⅱ(2)的顶端在地面(9)相接，斜撑件(3)的底端与竖向体Ⅰ(1)相接，且斜撑件(3)的底端位于基坑开挖面(8)的下方；S4、设置斜拉件组件：所述斜拉件组件由与步骤S3中斜撑件(3)一一对应的斜拉件(4)构成；所述斜拉件(4)的顶端与竖向体Ⅰ(1)的顶端相接，斜拉件(4)与竖向体Ⅱ(2)相交，相交点为A；所述相交点A位于基坑开挖面(8)下方；所述斜拉件(4)伸出相交点A的长度为a3；所述斜撑件(3)与斜拉件(4)相交于B点；S5、设置n层水平件组件：从地面(9)向下开挖深度为H的基坑，在开挖的同时，从距离地面(9)a4深度处，从上至下依次设置n层水平件组件；第n层水平件组件位于基坑开挖面(8)上方，与基坑开挖面(8)的距离为a5。2.根据权利要求1所述的无内支撑的软土基坑支护方法，其特征是：所述步骤S5设置水平件组件的具体步骤如下：5.1、设置第一层水平件组件：于地面(9)向下开挖第一层土，开挖深度为a4+0.5m；在a4深度处，设置第一层水平件组件；5.2、设置第k层水平件组件，n≥k≥2：于第k-1层的开挖深度再向下开挖第k层土，开挖深度为s2；在a4+(k-1)s2深度处，设置第k层水平件组件；重复上述步骤，直至k＝n；5.3、于第n层的开挖深度再向下开挖a5-0.5m深度，基坑开挖完毕。3.根据权利要求1或2所述的无内支撑的软土基坑支护方法，其特征是：每层水平件组件由至少两根沿基坑长度方向依次设置的水平件(6)构成，水平件(6)之间的水平间距为s3；所述水平件(6)与相交于点B的斜撑件(3)和斜拉件(4)于水平面上交错设置；所述斜撑件(3)之间的水平间距为s3，斜拉件(4)之间的水平间距为s3；所述水平件(6)与其相邻的斜撑件(3)之间的水平间距为s4；2CN109137933A权利要求书2/2页所述s3为1.0m～2.0m；所述s4为0.5s3。4.根据权利要求3所述的无内支撑的软土基坑支护方法，其特征是：所述步骤S1中竖向体Ⅰ(1)与竖向体Ⅱ(2)相平行，其水平距离为s1，s1为(0.5～1.0)H；所述竖向体Ⅰ(1)的长度L1为(1.5～2.5)H；所述竖向体Ⅱ(2)的长度L2为1.2H～L1；所述步骤S2中支墩(5)的宽度为b，高度为h；所述b为(0.8～1)H，h取(0.6～0.8)H。5.根据权利要求4所述的无内支撑的软土基坑支护方法，其特征是：所述斜撑件(3)与基坑开挖面(8)的距离为a1；所述相交点A与基坑开挖面(8)的距离为a1，与竖向体Ⅱ(2)底端的距离为a2，当(0.2～0.3)H小于2m时，a1取2m；当(0.2～0.3)H大于等于2m时，a1取(0.2～0.3)H；所述a2不小于2.0m，a3不小于5.