一种易涂布基材膜的制备方法.pdf
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一种易涂布基材膜的制备方法.pdf
本发明公开了一种易涂布基材膜的的制备方法,其特征在于,包括步骤:制备改性基材膜:按比例称取基材配料,混合均匀后加入吹膜机中,以平挤上吹法,经挤出、吹胀成型、冷却等步骤后得到改性基材膜;所述基材配料包括80~120份改性超支化聚酯,10~12份甘油甲酸酯,5~10份亚磷酸酯和1~2份二氧化硅和0.5~1份分散剂;粗糙化处理:通过电晕法对基材膜的表面进行预处理;收卷。通过本发明公开的制备方法,可得到易涂布、性能稳定持久的基材膜材料,且制备过程简单,适合大规模生产。
一种成卷膜基材涂布用的涂布装置.pdf
一种成卷膜基材涂布用的涂布装置。本发明是为了解决现有技术存在会产生明显的溶胀现象,造成薄膜局部翘曲变形,涂布成品率低的问题。其技术方案:包括机架以及依次布置的放卷机构、涂布机构、烘干装置和收卷机构,涂布机构由涂布头和背垫辊构成,特征是背垫辊为吸附辊、设在烘干装置的膜基材输入口外侧处,背垫辊辊面设背垫辊负压吸附区,烘干装置内铺设吸附板,吸附板设烘干装置负压吸附区,烘干装置的膜基材输出口外侧处且在收卷机构前面的机架上还设有传送辊,一幅金属薄板环形带套设在背垫辊和传送辊上、其上分布吸气孔,金属薄板环形带经过烘干
一种涂布型改色TPU改色膜制备方法.pdf
本发明提供一种涂布型改色TPU改色膜制备方法,涉及改色膜领域,包括以下步骤:(1)在TPU薄膜的一个面涂覆功能涂层,烘烤固化后,得到预处理薄膜;(2)对预处理薄膜的另一面进行等离子体刻蚀处理,随后得到表面改性TPU薄膜;(3)在表面改性TPU薄膜的刻蚀面均匀涂覆一层水性色胶,烘烤干燥固化后,在水性色胶层表面粘附压敏胶层,即得涂布型TPU改色膜。本发明对TPU薄膜预先进行等离子体偏压刻蚀处理,在薄膜上形成纳米级图案,使得薄膜该面的粗糙度增大,使得胶料与薄膜的接触面增大,有利于色胶层与薄膜的结合,提高了色胶层
一种涂布型光学反射膜及其制备方法.pdf
本发明属于光学膜技术领域,具体涉及一种涂布型光学反射膜及其制备方法,所述的涂布型光学反射膜包括反射膜基材及设置在所述反射膜基材表面的匀光层,所述的匀光层包括以下原料制备得到:水性聚氨酯、光扩散粒子、流平剂、消泡剂和水;所述的光扩散粒子是由硅藻土与玻璃微粉经超声分散后在球化炉中采用火焰喷吹的方式制备得到;本发明中,通过在所述的反射膜基材表面涂覆形成匀光层,所述的匀光层中含有光扩散粒子,能够对经反射膜反射后的光线进行再次的反射、折射,从而达到匀光的效果,能够提高反射膜的漫反射能力,确保在短OD机种中优异的匀光
一种涂布胶水、保护膜及其制备方法.pdf
本申请公开了一种涂布胶水、保护膜及其制备方法,属于保护膜的技术领域。按重量份数,涂布胶水的制备原料包括亚克力胶水1‑2份、醋酸乙酯3‑8份、固化剂1‑5份,还可以包括改性剂0.05‑0.15份。改性剂的制备包括:按重量份数,将纳米纤维素1份、硅烷偶联剂0.05‑0.1份、烯基琥珀酸酐0.02‑0.05份和溶剂5‑10份混合,于40‑50℃下搅拌超声10‑15min,得改性剂。上述包含改性剂的涂布胶水的制备包括有以下步骤:将亚克力胶水加入醋酸乙酯中,搅拌至溶液呈透明晶状;加入改性剂,于40‑50℃下搅拌超声