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一种用于N型电池片的PECVD镀膜工艺.pdf

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本发明提供了一种用于N型电池片的PECVD镀膜工艺,所述工艺包括以下步骤:(1)将N型硅片送入PECVD炉管中,通入三甲基铝和笑气进行一步沉积;(2)通入氨气和硅烷进行二步沉积;(3)通入笑气、硅烷和氨气进行三步沉积;(4)通入三甲基铝和笑气进行四步沉积,完成镀膜后抽空、氮气清洗、回压、出舟;其中,步骤(2)所述二步沉积至少沉积两层不同折射率的氮化硅层。本发明所述PECVD镀膜工艺可以使电池片的蓝色减反射膜面在组件中颜色更深,在黑色组件中更加美观,并减少因为外观色差导致的组件降级。