一种电场分布可调的低温等离子体发生装置.pdf

本发明提供了一种电场分布可调的低温等离子体发生装置,包括上接地板、可升降阵列电极、下接地板、接地板支撑机构、阵列电极固定器、阵列电极升降柱和阵列电极柔性电缆。所述的上接地板和下接地板通过接地板支撑机构连接并整体调节其间距,可升降阵列电极通过阵列电极升降柱和阵列电极固定器与上接地板相连,可升降阵列电极之间通过阵列电极柔性电缆相连。根据待加工曲面器件的面形特点,通过独立调节单个可升降阵列电极的高度,实现对曲面器件表面电场强度分布的调控,引入RF射频电源配合真空系统和工艺气体产生电场分布可调的低温等离子体。本发明相比现有Ar离子束发生装置具有加工口径大、加工效率高、对光学表面损伤小等优点。