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本发明涉及一种双相高耐蚀铜箔及其制备方法,属于金属材料领域,该铜箔组分是在纯铜的基础上添加微量元素铈和硼,制备步骤包括按质量百分比称取原料,采用石墨坩埚在真空熔炼炉中熔炼,将高纯Cu块、高纯B颗粒、高纯Ce颗粒放在真空熔炼炉中的石墨坩埚中,关闭炉门并抽真空,采用氩气气氛保护防止氧化,控制熔炼电流至合金块全部熔化,随后浇注于圆形铜模具中,加工成圆饼状,利用磁控溅射设备溅射到钛板上得到铜箔。本发明能得到厚度为1?10μm的铜箔,基体为铜,该铜箔的晶界上分布着非晶态的硼颗粒,其耐蚀性得到大幅度提升,Ce对铜箔组织起到晶粒细化的作用。本发明双相铜箔材料是一种新型高耐蚀铜箔材料,其制备方法具有环保、制备简单等优点。