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一种抛光液及其制备方法.pdf
2023-05-24
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一种抛光液及其制备方法.pdf
本发明属于抛光液技术领域,公开了一种抛光液及其制备方法,所述的制备方法包括:按质量份数提供如下原料:改性剂1～5份;掺杂碳酸铈20～35份;醇水混合溶液100份;其中,所述掺杂碳酸铈中采用金属掺杂,掺杂率为5～20%,且用于掺杂的金属为碱金属或碱土金属;将所述掺杂碳酸铈与改性剂球磨分散后高温焙烧,得到纳米级氧化铈;将所述纳米级氧化铈加入醇水混合溶液中,超声分散,得到抛光液;综上,通过掺杂及改性处理获得粒径均匀、具有良好分散效果且可用于抛光的纳米级氧化铈,该纳米级氧化铈超声分散于醇水混合溶液中,能有效避免出
2023-05-24
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一种磷化铟芯片抛光液及其制备方法.pdf
本发明公开了一种磷化铟芯片抛光液及其制备方法，该磷化铟芯片抛光液，按重量份数计，由以下组分组成：氧化铝微粉2‑40份，氧化剂1‑5份，分散剂0.1‑0.5份，水60‑98份。本发明的磷化铟芯片抛光液及其制备方法摒弃了传统的二氧化硅基CMP抛光液，采用氧化铝作为磨料，由于氧化铝本身的莫氏硬度要大于二氧化硅，所以采用化学作用较强的氧化剂与之匹配，在清洗方面氧化铝不同于硅溶胶，不会在芯片表面有一层吸附层，所以在最后芯片的清洗方面有着明显的优势；本发明的磷化铟芯片抛光液在提高抛光速率的同时能降低或达到相同的表面粗
2023-11-10
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一种锆基复合抛光液及其制备方法.pdf
本发明提供了一种锆基复合抛光液及其制备方法，主要由以下重量百分比的组分组成：研磨剂1~20wt%、分散剂0.05~2wt%、悬浮剂0.01~1wt%、氧化剂0.1~1.5wt%、pH调节剂0.1~10wt%、其余为去离子水；其中，研磨剂中氧化锆的含量占5~15%，其余为氧化铝、金刚石、氮化硼中的一种或几种。于棒销式砂磨机中按照比例依次加入研磨剂、分散剂、悬浮剂、氧化剂和去离子水进行研磨分散，棒销式砂磨机中填充氧化锆珠，控制其中搅拌棒的线速度在1.5~5m/s之间；添加pH调节剂，调节溶液pH值
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本发明公开了一种仿古砖抛光液，其主要由以下重量份的原料制备而成：改性氧化铝5‑15份，二氧化硅20‑30份，水55‑65份，硅烷偶联剂2‑5份，分散剂5‑8份，表面活性剂0.5‑5份，有机碱1‑5份，钝化剂0.5‑5份；其中，所述改性氧化铝由以下重量百分比的原料制成：氧化铝70‑85％，氨基硅烷偶联剂0.5‑5％，有机溶剂8‑15％，水2‑10％；其中，所述改性氧化铝的平均粒径为10‑100nm，所述改性二氧化硅的平均粒径为5‑20nm。相应的，本发明还公开了上述仿古砖抛光液的制备方法和其在仿古砖制备过程
2023-12-04
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一种化学机械抛光液及其制备方法.pdf
本发明提供的一种化学机械抛光液及其制备方法，化学机械抛光液中包括水热合成法制备形成的二氧化铈纳米颗粒、分散剂、去离子水、润滑剂和PH调节剂。制备化学机械抛光液时，将水热合成法形成的二氧化铈纳米颗粒放入马沸炉退火后，加水、分散剂，并通过润滑剂减小二氧化铈纳米颗粒间的摩擦，最后将PH值调制成7.0即可。通过这种制备方法，使得二氧化铈纳米颗粒粒径均匀，并通过润滑剂进一步增加了抛光液的去除效率，提高了化学抛光液的品质，且操作方便简单。
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