一种锆基复合抛光液及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113174205A(43)申请公布日2021.07.27(21)申请号202110499207.8(22)申请日2021.05.08(71)申请人苏州光控纳米材料科技有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市张浦镇港浦中路156号(72)发明人孙何梅燕闫建平徐中挺(51)Int.Cl.C09G1/02(2006.01)权利要求书1页说明书5页(54)发明名称一种锆基复合抛光液及其制备方法(57)摘要本发明提供了一种锆基复合抛光液及其制备方法，主要由以下重量百分比的组分组成：研磨剂1~20wt%、分散剂0.05~2wt%、悬浮剂0.01~1wt%、氧化剂0.1~1.5wt%、pH调节剂0.1~10wt%、其余为去离子水；其中，研磨剂中氧化锆的含量占5~15%，其余为氧化铝、金刚石、氮化硼中的一种或几种。于棒销式砂磨机中按照比例依次加入研磨剂、分散剂、悬浮剂、氧化剂和去离子水进行研磨分散，棒销式砂磨机中填充氧化锆珠，控制其中搅拌棒的线速度在1.5~5m/s之间；添加pH调节剂，调节溶液pH值至9~11，最终便制得抛光液。本发明的抛光液能够有效去除硒化锌、硫化锌、硫系玻璃等材料表面的麻点、表面损伤等缺陷，避免抛光过程中产生划痕，而且本发明的抛光液同时兼顾抛光效果和抛光效率，效果良好。CN113174205ACN113174205A权利要求书1/1页1.一种锆基复合抛光液，其特征在于，主要由以下重量百分比的组分组成：研磨剂1~20wt%；分散剂0.05~2wt%；悬浮剂0.01~1wt%；氧化剂0.1~1.5wt%；pH调节剂0.1~10wt%；其余为去离子水；其中，研磨剂中氧化锆的含量占5~15%，其余为氧化铝、金刚石、氮化硼中的一种或几种。2.根据权利要求1所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，所述研磨剂中氧化锆的晶型为单斜晶型，粒径分布D在50200nm，D<2µm。50~1003.根据权利要求1所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，所述研磨剂组分中氧化铝为α‑AlO，粒径分布D在50150nm，D<1µm。2350~1004.根据权利要求1所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，所述研磨剂组合中金刚石及氮化硼的粒径分布D在20100nm，D<0.5µm。50~1005.根据权利要求1所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，所述分散剂为三聚磷酸钠、六偏磷酸钠、焦磷酸钠、聚乙烯吡咯烷酮中的一种或几种。6.根据权利要求1所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，所述悬浮剂为甲基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、聚丙烯酸钠、黄原胶、海藻酸钠的一种或几种。7.根据权利要求1所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，所述氧化剂为高氯酸钾、氯酸钾、次氯酸钾、次氯酸钠中的一种或两种。8.根据权利要求1所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，所述pH调节剂为氢氧化钠、氢氧化钾、乙醇胺中的任意一种。9.根据权利要求1‑8任一所述一种锆基复合抛光液的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：于棒销式砂磨机中按照比例依次加入研磨剂、分散剂、悬浮剂、氧化剂和去离子水进行研磨分散，棒销式砂磨机中填充氧化锆珠，控制其中搅拌棒的线速度在1.5~5m/s之间；添加pH调节剂，调节溶液pH值至9~11。10.根据权利要求9所述的一种锆基复合抛光液，其特征在于，棒销式砂磨机中填充的氧化锆珠的粒径在0.1~0.5mm之间。2CN113174205A说明书1/5页一种锆基复合抛光液及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及研磨抛光技术领域，尤其是涉及一种锆基复合抛光液及其制备方法。背景技术[0002]化学机械抛光(CMP)是结合抛光液化学反应和磨粒机械磨损的混合材料去除工艺，通过化学与机械的综合作用，解决了单纯机械抛光造成的表面损伤和单纯化学抛光速度慢、表面平整度差等缺点，广泛应用于半导体集成电路、盘基片、光学玻璃等材料的精密抛光中。[0003]硒化锌(ZnSe)是重要的Ⅱ‑Ⅵ族半导体材料，具有直接跃迁能带结构，因为其微观结构均匀，能提供高红外传输，并具有较低的吸收和散射损耗，常用于红外光谱和电光学中，用于制造窗口材料、聚焦透镜、分束器、棱镜和半透镜。在10.6μm处运行的高功率CO2激光器目前广泛应用于科学技术领域，硒化锌材料对热冲击具有很高的承受能力，使它成为高功率CO2激光器系统中的最佳光学材料。红外硫系玻璃是一类性能优良的红外透过材料，透过波段覆盖三个大气窗口；原料中含有少量锗，且原材料价格低，折射率温度系数仅为锗单晶的1/5，具有良好的温度自适应性能。因此，红外硫系玻璃在红外夜视、侦察搜索、热瞄具、夜间导航和驾驶、精确制导等军事领域，以及消防、海关缉私、保安、搜索与救援等准军事领域具有广泛应