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本发明公开了一种用于清洗晶圆的喷射装置,包括喷嘴架及喷嘴主体。喷嘴主体具有分别沿上下方向延伸的第一流体通道与第二流体通道,第二流体通道环设于第一流体通道的周部,两者之间通过环形壁间隔开。喷嘴主体还具有位于下端部的第一出口与第二出口,第一出口与第一流体通道相连通,第二出口与第二流体通道相连通,第二出口环设于第一出口的周部。喷射装置还包括一端部与第一流体通道相连通的第一流体管、一端部与第二流体通道相连通第二流体管、一端部与第一流体通道和/或第二流体通道相连通的第三流体管。该喷射装置集成了气液清洗功能,同时具备喷射液体、气体或气液混合体等多种清洗模式,有助于缩短清洗时间,提升工业产能。