引入趋肤效应的旋转磁场建模及其在提拉法结构浅液池热毛细流中对流控制的应用.doc
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引入趋肤效应的旋转磁场建模及其在提拉法结构浅液池热毛细流中对流控制的应用.doc
引入趋肤效应的旋转磁场建模及其在提拉法结构浅液池热毛细流中对流控制的应用在晶体生长的过程中,熔体流动稳定性直接影响制备晶体材料的质量,因此,对熔体对流的控制是提高晶体质量的关键。由于半导体熔体具有良好的导电性,外加磁场成为一种控制熔体对流的有效手段。其中,旋转磁场技术由于具有消耗能量低、控制效果明显等特点,在晶体生长工艺中备受关注。在旋转磁场穿透熔体的过程中,趋肤效应会导致熔体内的磁场分布发生改变,其强弱可用与熔体电导率、磁导率、旋转磁场频率及熔体半径有关的无量纲趋肤因子K来衡量,当K<<1时
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