预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/10
2/10
3/10
4/10
5/10
6/10
7/10
8/10
9/10
10/10

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

本发明公开了半导体技术领域的一种垂直型氧化镓晶体管及其制备方法,方法包括以下步骤:对氧化镓材料在1000~1400℃范围内的氧气氛围退火,退火时间1?24h,形成单晶层、缺陷层和氧化层;将氧化镓材料背面的缺陷层和氧化层,以及氧化镓材料正面的缺陷层去除,得到初始样品;在氧化层上制备重掺杂的接触层,在接触层上制备源电极层,以及制备垂直于样品平面的沟槽,在沟槽制备栅介质层,制备栅电极和漏电极。针对现有技术氧化镓场效应晶体管电流不够大,增强型难以实现,且阈值电压容易偏移的问题,设计了垂直型结构的工作于准反型模式的氧化镓场效应晶体管及其制备方法。