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本发明提供了一种用于硅片制绒后清洗用添加剂、清洗液以及硅片制绒后清洗方法。其中硅片清洗用添加剂中各组分的质量百分含量为:3%?5%的软水剂、3%?6%的氧化剂、0.01%?0.05%的低泡耐碱渗透剂、1%?3%的缓冲剂,余量为水;其中,所述氧化剂选自于由次氯酸钠、亚氯酸钠、高氯酸钠以及过硼酸钠所组成的群组,所述低泡耐碱渗透剂为磺酸盐类表面活性剂。通过在清洗液中添加本发明的添加剂,实际生产中,能够大幅度降低了成本,并清洁更彻底,能够提高单晶电池效率0.01%?0.05%。在降低生产成本的同时,也降低了污水处理的成本,避免了对自然水体、土壤的污染。