一种LED芯片及其制作方法.pdf
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相关资料
一种LED芯片及其制作方法.pdf
本申请公开了一种LED芯片及其制作方法,该LED芯片为倒装结构,包括依次排布的蓝宝石衬底、第一增透膜、第一半导体层和发光层,发光层包括第一型GaN层、多量子阱层和第二型GaN层,通过在第一半导体层和蓝宝石衬底之间增加第一增透膜,以减少向蓝宝石衬底的出光方向上的反射光,增加透射光,从而提高对倒装LED芯片出射光的萃取效率,提升倒装LED芯片的外量子效率;并且,设置第一增透膜为Mg<base:Sub>x</base:Sub>Zn<base:Sub>(1?x)</base:Sub>O层,使得Mg<base:Su
一种LED芯片及其制作方法.pdf
本申请实施例公开了一种LED芯片及其制作方法,该LED芯片通过在所述P型氮化镓层背离所述发光层一侧的表面形成多个盲孔,所述盲孔沿第一方向的深度小于所述P型氮化镓层的厚度,从而在不影响所述P型氮化镓层有效的电流传导面积的情况下,来减少所述P型氮化镓层对所述发光层发射的光线的吸收,提高所述P型氮化镓层的出光量,同时将所述盲孔的侧壁设置为粗糙表面,以增加所述盲孔侧壁出光量,从而进一步增加所述P型氮化镓层背离所述发光层一侧的出光量,提高所述LED芯片的发光效率。
一种LED芯片及其制作方法.pdf
本发明提供了一种LED芯片及其制作方法,通过所述第一电极作为LED芯片的一个控制接口,实现了呈水平结构的两接触电极(即第一电极和第二电极呈水平结构)或呈垂直结构的两接触电极(即基板和第二电极呈水平结构)。进一步地,本发明中,所述基板包括导电基板,其作为所述LED芯片的另一接触电极;该设计除了可以实现设计的灵活性,也可以通过测试所述第一电极、基板以及第二电极两两之间的伏安特性,以表征所述第一、第二型半导体的表面欧姆接触电阻率,从而为后续的芯片工艺设计提供数据参考,以获得高性能的LED产品。
一种UVC-LED芯片及其制作方法.pdf
本发明公开了一种UVC‑LED芯片及其制作方法。本发明提供的UVC‑LED芯片,通过在LED外延层生长过程中插入蚀刻速率差异相对较大的蚀刻停止层,只让p‑GaN层可选择性地进行蚀刻,选择性地留下p‑GaN层,剩下其他的全部覆盖上P电极层。因P电极层内部保留了一部分的p‑GaN层,通过它很容易形成和P电极层的欧姆接触,可以降低驱动电压,而且大部分的P电极层中并不存在p‑GaN或存在p‑GaN的可忽略不计,通过最小化在活性层发生的光吸收导致的光损失,提高了通过P电极层的反射率,从而有效提高UVC‑LED的光效
一种双层电极LED芯片及其制作方法.pdf
本发明提供一种双层电极LED芯片及其制作方法,通过两层电极结构的设计,在第一层电极外形成高电极电位第二层电极,且第二层电极把第一层电极全覆盖,有效防止第一层电极在通电以及弱电解条件下发生水解,提高芯片的可靠性。此外,在第二层电极外形成钝化层,进一步防止环境中的水蒸气或者封装胶中残留的水蒸气进入芯片内部,有效地保护芯片的金属电极,防止在第一层电极或第二层电极在通电以及弱电解条件下发生水解,提高芯片的可靠性。