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本发明提供了一种新型底部抗反射涂层组合物及其制备方法,所述底部抗反射涂层组合物包括下述质量百分比的原料:主体树脂0.5%?15%、含芳环结构的交联剂A5%?15%、交联剂B0.1%?5%、热敏酸0.1%?1%、余量为溶剂。该底部抗反射涂层组合物含有芳环结构,特别是当含有芳基的甘脲结构,可以通过改变含芳基的比例,方便的调整n/k值,大大降低底部抗反射涂层组合物产品在n/k值方面的调整难度,减少光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题,提高光刻工艺中线宽解析度。