一种纳米晶TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层及其制备方法.pdf
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一种纳米晶TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层及其制备方法.pdf
本发明公开了一种TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层及其制备方法,Zr的原子百分比小于15.8at.%,其余为近等原子比的TaWMoCr。在抛光的钢基体和单晶硅基体上采用磁控溅射共溅射的方法制备TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层,其中TaWMoCr合金靶采用2个直流电源,Zr靶采用1个射频电源。高真空磁控溅射共溅射制备得到的TaWMoCrZr难熔高熵合金涂层为单相BCC固溶体,具有纳米柱状晶结构,表面形貌为针片状,成分均匀,组织致密,厚度为2.1~2.7μm。Zr的适量加入可以有效提高TaWMoCr高熵合金
TiZrHfNb纳米晶难熔高熵合金及其制备方法.pdf
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一种高熵合金涂层粉末及纳米晶高熵合金涂层的制备方法.pdf
一种高熵合金涂层粉末及纳米晶高熵合金涂层的制备方法,包括以下成分:Al、Co、Cr、Fe、Ni、Mo;其中Co、Cr、Fe、Ni、Mo元素为等摩尔混合,Al的添加量为其他元素摩尔量的110%‑300%。一种纳米晶高熵合金涂层的制备方法,包括如下步骤:在氩气保护下,采用激光同轴送粉法将所述的高熵合金粉末熔覆在基体上,之后将熔覆好的材料在900℃‑850℃下退火,保温5小时以上,炉内冷却。与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明了提供了一种新型的专门适用于激光熔覆技术的复合粉末配方和制备方法,以及与之相匹配
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