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本实用新型涉及圆晶加工设备技术领域,具体为一种晶圆激光解键合的台面,包括底座,所述底座的顶部安装有承载架,所述承载架的顶部安装有承载台面,所述承载台面包括上中下三层结构,上层为多孔陶瓷,下层为支撑板,中层为圆柱体,所述圆柱体的顶部表面开设有两个环形槽。该晶圆激光解键合的台面中,通过其中设置的多孔陶瓷可以均匀导真空,吸附固定晶圆;通过其中设置的多孔陶瓷可以均匀导真空,吸附固定晶圆;设置8英寸区域的多孔陶瓷和12英寸区域的多孔陶瓷,保证真空可以分开控制,避免晶圆变形;设置上下移动的带吸嘴的负压泵,既可以吸附晶圆,防止晶圆移动,又可以为机械手取放晶圆提供空间,从而保证晶圆固定,避免晶圆变形。