等离子产生装置及衬底处理装置.pdf
慧颖****23
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等离子产生装置及衬底处理装置.pdf
本发明的等离子产生装置具备电极群与介电质。介电质具有第1主面、及与第1主面为相反侧的第2主面。电极群由介电质密封,包含在与第1主面平行的排列面内交替排列的至少一个第1电极及至少一个第2电极,使通过在第1电极21a与第2电极21b之间施加高频电压而产生的电场,作用于比第1主面3a更外侧。
等离子产生装置及衬底处理装置.pdf
本发明的等离子产生装置具备电极群与介电质。介电质具有第1主面、及与第1主面为相反侧的第2主面。电极群由介电质密封,包含在与第1主面平行的排列面内交替排列的至少一个第1电极及至少一个第2电极,使通过在第1电极21a与第2电极21b之间施加高频电压而产生的电场,作用于比第1主面3a更外侧。
衬底处理装置及衬底处理装置的控制方法.pdf
本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理装置的控制方法。通常,第2衬底搬送机构被设定为从衬底缓冲部向载置在开启器的前开式晶圆盒搬送衬底。然而,在满足规定条件的情况下,第2衬底搬送机构从前开式晶圆盒向衬底缓冲部搬送衬底。也就是说,第2衬底搬送机构进行与通常的衬底搬送动作不同的动作。由此,第2衬底搬送机构能够在从特定前开式晶圆盒取出所有衬底后至将所有已处理过的衬底收纳到特定前开式晶圆盒为止的期间,使特定前开式晶圆盒停留在特定前开式晶圆盒的载置位置(开启器)。由此,前开式晶圆盒搬送机构能够搬送除特定前开式晶圆盒以外
衬底处理装置及使用该装置的衬底处理方法.pdf
提高衬底的加热效率而谋求衬底的升温时间的缩短。衬底处理装置包括:由筒状的反应管(100)和密封盖(110)气密地构成的处理室(30);设于反应管(100)周围的作为加热器的炉体加热部(200);配置在处理室(30)内,且收纳多个玻璃衬底(20)的晶片盒(410);设于反应管(100)内部的被封闭的一侧部的电动风扇(500);以及圆筒形的整流板(430),其在处理室(30)内将在晶片盒(410)上竖立配置的多个玻璃衬底(20)中的配置在最外部位置的玻璃衬底(20)的表面覆盖,且控制成使得朝向电动风扇(500
衬底处理装置及衬底处理方法.pdf
本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是对衬底进行特定处理的衬底处理装置,所述装置包含以下要素。保持机构具备:多个支撑销,跨及保持位置与交接位置之间而旋动;第1磁力部,通过切换周围的磁极来使所述各支撑销旋动到所述保持位置及所述交接位置;以及第2磁力部,始终对所述第1磁力部赋予磁场,使所述各支撑销旋动到所述保持位置;切换机构在正常情况下,不对所述第1磁力部赋予第3磁力部的磁场,只有在衬底交接时,才对所述第1磁力部赋予所述第3磁力部的磁场,使得所述各支撑销旋动到所述交接位置。