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本申请保护了一种注入靶盘改良方法,包括将靶盘在抛光液中进行一次抛光,得到粗抛靶盘;将所述粗抛靶盘在抛光液中进行二次抛光,得到细抛靶盘。其中抛光液包括水、研磨液、光亮剂和磁性钢针,所述水与所述研磨液的比例为6:1?10:1,所述水与所述光亮剂的比例为6:1?10:1。本申请通过对靶盘进行磁力抛光处理,将靶盘表面加工损伤层去除,露出里面新鲜层,然后对靶盘进行清洁处理,得到改良靶盘。改良后的靶盘,使用过程中束流长时间轰击,也不会引起靶盘起皮脱落。