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本实用新型提供了一种还原炉喷涂装置及还原炉喷涂系统,涉及多晶硅生产设备技术领域。该还原炉喷涂装置包括:支撑底座,用于固定安装还原炉,所述支撑底座内部与所述还原炉内部形成有一容置空间;第一驱动机构,设置于所述容置空间内;喷涂组件,与所述第一驱动机构固定连接,所述喷涂组件用于向所述还原炉的内壁喷涂涂料;其中,所述第一驱动机构驱动所述喷涂组件进行轴向运动和/或圆周运动。本实用新型的方案,解决了现有技术在对还原炉内壁进行喷涂时,需要将还原炉高速旋转所带来的安全性低且能耗成本大的问题。