晶圆冷却装置及涂胶显影设备.pdf
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晶圆冷却装置及涂胶显影设备.pdf
本实用新型公开一种晶圆冷却装置及涂胶显影设备,所述晶圆冷却装置包括箱体、多个水冷结构以及供水结构和排水结构,所述箱体形成有侧部开口的冷却腔,多个所述水冷结构沿上下向依次设置于所述冷却腔内,各所述水冷结构包括多个水冷盘,多个所述水冷盘均处于同一水平面,多个所述水冷盘的上端面用以承载晶圆,各所述水冷盘具有进水口、出水口以及连通所述进水口和所述出水口的过水通道,所述进水口和所述出水口位于所述水冷盘的下端面,所述供水结构与所述进水口连通,所述排水结构与所述出水口连通。本实用新型提供的晶圆冷却装置进行晶圆冷却时,晶
一种用于晶圆涂胶显影系统防尘装置.pdf
本实用新型提供一种用于晶圆涂胶显影系统防尘装置,包括涂胶显影设备、设于涂胶显影设备一侧开设工作槽开口位置的防护门、以及设于工作槽内对晶圆加工的涂胶显影模块,工作槽内且临近防护门的位置设置有防尘机构,防尘机构包括设于工作槽内可在工作槽开口位置形成空气气幕的防尘组件;防尘组件包括顶侧通过安装件设于工作槽内临近涂胶显影设备顶端槽壁上且底侧侧面开设喷气孔朝向工作槽开口位置的气动喷头;本实用新型可以避免外部颗粒进入到设备内部,提高了晶圆生产的良品率。
晶圆显影装置及方法.pdf
本发明公开了一种晶圆显影装置及方法,该显影装置包括旋转装置和喷淋装置,所述喷淋装置位于旋转装置上方,且包括显影液喷淋装置,所述显影液喷淋装置包括输送管,泵,储液罐和二通阀,所述泵与所述输送管一端互通连接,所述储液罐位于所述输送管中间且通过二通阀相互连接;其中,该显影液喷淋装置还包括向所述泵触发加压信号的电磁阀。当电磁阀打开时,由于显影液喷淋装置在喷显影液之前处于闭合状态,显影液喷淋装置将会加压但不喷显影液。通过上述方法保证了设定显影液喷液时间与实际显影液喷液时间一致,从而可杜绝显影液未铺满的工艺缺陷。
晶圆显影设备及晶圆清洗方法.pdf
本申请属于半导体制造设备技术领域,具体涉及一种晶圆显影设备及晶圆清洗方法。本申请的晶圆显影设备包括装载台、清洗剂喷射装置和气体喷射装置,装载台用于装载晶圆,装载台能够绕自身轴向转动,清洗剂喷射装置包括喷头,喷头设于装载台的上方,喷头能够在平行于晶圆的平面内沿直线方向往复运动,喷头设有至少一个清洗剂喷嘴,清洗剂喷嘴用于在光刻胶去除过程中向晶圆喷射光刻胶清洗剂,气体喷射装置包括至少两个气体喷嘴,气体喷嘴用于在光刻胶去除过程中向晶圆喷射气体,清洗剂喷嘴沿喷头的直线往复运动的方向的前后位置处分别设有至少一个气体喷
一种检测与校正晶圆边缘曝光的方法和涂胶显影机.pdf
本发明涉及一种检测与校正晶圆边缘曝光的方法和涂胶显影机。校正晶圆边缘曝光的方法包括如下步骤:在晶圆上旋涂光刻胶;使用LED光源对所述晶圆进行边缘曝光;在显影后,对所述晶圆进行检测,获取曝光后的光刻胶信息;根据获取的所述光刻胶信息校正所述边缘曝光的参数。在显影后对晶圆进行检测,获取曝光后的光刻胶信息,并根据光刻胶信息校正所述边缘曝光的参数,能够随时调整边缘曝光的工艺参数,灵活性强,能够提高对边缘残留的光刻胶的处理效果。