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1.2MOS集成电路的基本制造工艺CMOS工艺技术是当代VLSI工艺的主流工艺技术,它是在PMOS与NMOS工艺基础上发展起来的。其特点是将NMOS器件与PMOS器件同时制作在同一硅衬底上。CMOS工艺技术一般可分为三类,即P阱CMOS工艺N阱CMOS工艺双阱CMOS工艺P阱CMOS工艺P阱CMOS工艺N阱CMOS工艺N阱CMOS工艺N阱CMOS芯片剖面示意图双阱CMOS工艺双阱CMOS工艺双阱CMOS工艺双阱CMOS工艺主要步骤双阱CMOS工艺主要步骤MOS工艺的自对准结构自对准工艺示意图自对准工艺无定形硅锑离子氩炭化硅